公开(公告)号：CN110808326B

公开(公告)日：2024-04-05

申请号：CN201910715065.7

申请日：2019-08-02

Applicant: 日亚化学工业株式会社

Inventor： 宫入洋 ,  远藤慎哉

IPC: H01L33/50 ,  H01L33/60 ,  H01L25/075

Abstract: 本发明提供一种能够降低像面弯曲的影响的发光装置及其制造方法。发光装置(1)具备：基板(10)；安装于基板(10)的多个发光元件(12)；在多个发光元件(12)上设置且包含荧光体粒子(15)的多个荧光体部件(14)；以及配置在相邻的荧光体部件(14)之间且反射从发光元件(12)出射的光的光反射层(16)。由多个荧光体部件(14)和光反射层(16)构成的集合体(19)的上表面(19a)是凹状的曲面。

公开(公告)号：CN110808326A

公开(公告)日：2020-02-18

申请号：CN201910715065.7

申请日：2019-08-02

Applicant: 日亚化学工业株式会社

Inventor： 宫入洋 ,  远藤慎哉

IPC: H01L33/50 ,  H01L33/60 ,  H01L25/075

Abstract: 本发明提供一种能够降低像面弯曲的影响的发光装置及其制造方法。发光装置(1)具备：基板(10)；安装于基板(10)的多个发光元件(12)；在多个发光元件(12)上设置且包含荧光体粒子(15)的多个荧光体部件(14)；以及配置在相邻的荧光体部件(14)之间且反射从发光元件(12)出射的光的光反射层(16)。由多个荧光体部件(14)和光反射层(16)构成的集合体(19)的上表面(19a)是凹状的曲面。