公开(公告)号：CN1200066C

公开(公告)日：2005-05-04

申请号：CN01809394.9

申请日：2001-05-07

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 太田勇夫 ,  西村透 ,  山田元

IPC: C09K3/14 ,  B24B37/00 ,  B24B57/02 ,  G11B5/84

CPC classification number: G11B5/8404 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  G11B5/84

Abstract: 对于铝盘和玻璃制硬盘，需要的是平均波度小于3的那些盘，以提高记忆容量密度。本发明提供能使盘具有光滑抛光表面的抛光剂组合物。该抛光剂组合物为抛光铝盘或表面具有二氧化硅的基体的抛光剂组合物，其含有具有不同粒子尺寸分布的胶态二氧化硅粒子团，并且SiO2浓度为0.5-50重量%。

公开(公告)号：CN1434846A

公开(公告)日：2003-08-06

申请号：CN01809394.9

申请日：2001-05-07

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 太田勇夫 ,  西村透 ,  山田元

IPC: C09K3/14 ,  B24B37/00 ,  B24B57/02 ,  G11B5/84

CPC classification number: G11B5/8404 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  G11B5/84

Abstract: 对于铝盘和玻璃制硬盘，需要的是平均波度小于3的那些盘，以提高记忆容量密度。本发明提供能使盘具有光滑抛光表面的抛光剂组合物。该抛光剂组合物为抛光铝盘或表面具有二氧化硅的基体的抛光剂组合物，其含有具有不同粒子尺寸分布的胶态二氧化硅粒子团，并且SiO2浓度为0.5－50重量％。