公开(公告)号：CN1520524A

公开(公告)日：2004-08-11

申请号：CN01823393.7

申请日：2001-07-27

Applicant: 日本板硝子株式会社

Inventor： 河津光宏 ,  河本真司 ,  山本博章 ,  永田秀史 ,  V·V·瑟里科夫 ,  猪又宏之

IPC: G02B5/30

CPC classification number: G02B5/3058

Abstract: 一种偏光元件(20)，具有在透明基板(21)的一个表面上相互平行地形成有多个直线状的第1凹部(22)的第1凹凸结构，在该第1凹凸结构的表面上形成由二氧化硅构成的电介体(30)的层。在形成有电介体(30)的层的第2凹凸结构中，第2凹部(32)的宽度为W，深度为H。第2凸部(33)的宽度为d，在每个第2凹部(32)中埋设宽度为W、深度为H的薄膜状的导电体(13)。

公开(公告)号：CN100362370C

公开(公告)日：2008-01-16

申请号：CN01117819.1

申请日：2001-03-01

Applicant: 日本板硝子株式会社

Inventor： 藤野耕三 ,  V·V·瑟里科夫 ,  河本真司 ,  田口雅文

IPC: G02B5/12 ,  H04N1/04

CPC classification number: G02B6/0038 ,  G02B2006/0098 ,  H04N1/02815 ,  H04N1/02835 ,  H04N1/02885 ,  H04N1/0289 ,  H04N1/0315

Abstract: 光导向器1的反面具有预定间距的三角槽非均匀面1b。该面1b是在光导向器1注塑成型时同时形成的。从光入射面入射的光在光导向器内产生全反射并沿主扫描方向(纵向)传播。到达非均匀面1b的光在非均匀面上散射和全反射，该光线是由出射面出射的。主扫描方向上的光强可通过当非均匀面从光入射面延伸时加长非均匀面1b而变得均匀。在副扫描方向光强变为最大的位置可通过调节非均匀面1b脊线和副扫描方向的夹角来改变，且副扫描方向上光强的分布特性也可改变。

公开(公告)号：CN1313514A

公开(公告)日：2001-09-19

申请号：CN01117819.1

申请日：2001-03-01

Applicant: 日本板硝子株式会社

Inventor： 藤野耕三 ,  V·V·瑟里科夫 ,  河本真司 ,  田口雅文

IPC: G02B5/12 ,  H04N1/04

CPC classification number: G02B6/0038 ,  G02B2006/0098 ,  H04N1/02815 ,  H04N1/02835 ,  H04N1/02885 ,  H04N1/0289 ,  H04N1/0315

Abstract: 光导向器1的反面具有预定间距的三角槽非均匀面1b。该面1b是在光导向器1注塑成型时同时形成的。从光入射面入射的光在光导向器内产生全反射并沿主扫描方向(纵向)传播。到达非均匀面1b的光在非均匀面上散射和全反射,该光线是由出射面出射的。主扫描方向上的光强可通过当非均匀面从光入射面延伸时加长非均匀面1b而变得均匀。在副扫描方向光强变为最大的位置可通过调节非均匀面1b脊线和副扫描方向的夹角来改变,且副扫描方向上光强的分布特性也可改变。