-
公开(公告)号：CN103562131A
公开(公告)日：2014-02-05
申请号：CN201280024785.5
申请日：2012-05-30
Applicant: 日本瑞翁株式会社 , 独立行政法人产业技术总合研究所
CPC classification number: C01B31/0226 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/162 , C01B32/168 , C01B2202/08 , C23C16/54
Abstract: 本发明提供一种取向碳纳米管集合体的制造装置，其具备：生长单元(3)，该生长单元(3)包含使催化剂的周围环境成为原料气体环境，同时对催化剂及原料气体中的至少一者进行加热从而使取向CNT集合体生长的生长炉(3a)；输送单元(6)，其将取向CNT集合体制造用基板(10)从生长炉(3a)中输送到外部，并且还具备加热部(13c)，该加热部(13c)从生长炉(3a)外对从生长炉(3a)输出取向CNT集合体制造用基板(10)的出口进行加热。
-
公开(公告)号：CN102471065A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201080028714.3
申请日：2010-06-29
Applicant: 日本瑞翁株式会社 , 独立行政法人产业技术总合研究所
IPC: C01B31/02
CPC classification number: C01B31/024 , B01J15/005 , B01J19/0006 , B01J19/0073 , B01J19/22 , B01J2219/00159 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/164 , C01B2202/08 , C23C16/0218 , C23C16/26 , C23C16/4408 , C23C16/4412 , C23C16/45502 , Y02P20/149
Abstract: 本发明提供一种取向CNT集合体的连续制造装置，其具有防止生长炉(3a)外的气体混入到生长炉(3a)内的气体中的气体混入防止机构(12、13)，所述气体混入防止机构(12、13)具有密封气体喷射部(12b、13b)和排气部(12a、13a)，所述密封气体喷射部(12b、13b)沿着生长炉(3a)的装入催化剂基板(10)的口及取出催化剂基板(10)的口的开口面喷射密封气体；所述排气部(12a、13a)以所述密封气体不从该口进入所述生长炉(3a)中的方式抽吸所述密封气体并排出到制造装置(100)的外部，由此，可一边连续地输送负载有催化剂的基体材料一边制造取向碳纳米管集合体，并且，该制造装置能够防止大气混入，且能够将原料气体和/或催化剂活化物质在基体材料上的浓度分布、流速分布均匀地控制在适合CNT制造的范围内，并且尽可能不扰乱生长炉内的气流。
-
公开(公告)号：CN102307808B
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN201080007139.9
申请日：2010-02-08
Applicant: 日本瑞翁株式会社 , 独立行政法人产业技术总合研究所
IPC: C01B31/02
CPC classification number: C01B31/0226 , B01J15/005 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J19/22 , B01J2219/0009 , B01J2219/00094 , B01J2219/00123 , B01J2219/00135 , B01J2219/00139 , B01J2219/00148 , B01J2219/00159 , B01J2219/00164 , B01J2219/0894 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/158 , C01B32/16 , C01B32/164 , C01B2202/08 , C23C16/26 , C23C16/46
Abstract: 所涉及的取向碳纳米管集合体的制造装置是一种，以基材表面所形成的催化剂的周边环作为境还原气体环境，同时对前述催化剂以及前述还原气体中的至少一方进行加热之后，将前述催化剂的周边环境设定为原料气体环境，同时对前述催化剂以及前述原料气体中的至少一方进行加热，使取向碳纳米管集合体生长的取向碳纳米管集合体的制造装置，暴露在前述还原气体中的装置部件以及暴露在前述原料气体中的装置部件之中，至少有一个装置部件的材质为耐热合金，并且该表面经过了溶融镀铝处理。
-
公开(公告)号：CN102471065B
公开(公告)日：2014-03-26
申请号：CN201080028714.3
申请日：2010-06-29
Applicant: 日本瑞翁株式会社 , 独立行政法人产业技术总合研究所
IPC: C01B31/02
CPC classification number: C01B31/024 , B01J15/005 , B01J19/0006 , B01J19/0073 , B01J19/22 , B01J2219/00159 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/164 , C01B2202/08 , C23C16/0218 , C23C16/26 , C23C16/4408 , C23C16/4412 , C23C16/45502 , Y02P20/149
Abstract: 本发明提供一种取向CNT集合体的连续制造装置，其具有防止生长炉(3a)外的气体混入到生长炉(3a)内的气体中的气体混入防止机构(12、13)，所述气体混入防止机构(12、13)具有密封气体喷射部(12b、13b)和排气部(12a、13a)，所述密封气体喷射部(12b、13b)沿着生长炉(3a)的装入催化剂基板(10)的口及取出催化剂基板(10)的口的开口面喷射密封气体；所述排气部(12a、13a)以所述密封气体不从该口进入所述生长炉(3a)中的方式抽吸所述密封气体并排出到制造装置(100)的外部，由此，可一边连续地输送负载有催化剂的基体材料一边制造取向碳纳米管集合体，并且，该制造装置能够防止大气混入，且能够将原料气体和/或催化剂活化物质在基体材料上的浓度分布、流速分布均匀地控制在适合CNT制造的范围内，并且尽可能不扰乱生长炉内的气流。
-
公开(公告)号：CN102307808A
公开(公告)日：2012-01-04
申请号：CN201080007139.9
申请日：2010-02-08
Applicant: 日本瑞翁株式会社 , 独立行政法人产业技术总合研究所
IPC: C01B31/02
CPC classification number: C01B31/0226 , B01J15/005 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J19/22 , B01J2219/0009 , B01J2219/00094 , B01J2219/00123 , B01J2219/00135 , B01J2219/00139 , B01J2219/00148 , B01J2219/00159 , B01J2219/00164 , B01J2219/0894 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/158 , C01B32/16 , C01B32/164 , C01B2202/08 , C23C16/26 , C23C16/46
Abstract: 所涉及的取向碳纳米管集合体的制造装置是一种，以基材表面所形成的催化剂的周边环作为境还原气体环境，同时对前述催化剂以及前述还原气体中的至少一方进行加热之后，将前述催化剂的周边环境设定为原料气体环境，同时对前述催化剂以及前述原料气体中的至少一方进行加热，使取向碳纳米管集合体生长的取向碳纳米管集合体的制造装置，暴露在前述还原气体中的装置部件以及暴露在前述原料气体中的装置部件之中，至少有一个装置部件的材质为耐热合金，并且该表面经过了溶融镀铝处理。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103827024B
公开(公告)日：2017-06-23
申请号：CN201280039624.3
申请日：2012-08-23
Applicant: 日本瑞翁株式会社 , 独立行政法人产业技术总合研究所
IPC: C01B32/16 , B01J23/745 , B82Y30/00 , B82Y40/00
CPC classification number: C01B32/05 , B01J23/745 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/16 , C01B2202/08 , C01B2202/30 , C01B2202/32 , C23C16/4412 , C23C16/45578
Abstract: 本发明的取向碳纳米管集合体的制造装置具备：具备将原料气体喷射到基体材料(111)上的喷射口(12a)的喷射部(12)、排出原料气体的排气口(15)、设有多个排气口(13a)的排气部(13)，多个排气口(13a)位于比多个喷射口(12a)更靠近排气口(15)的一侧。
-
公开(公告)号：CN102741161B
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：CN200980100516.0
申请日：2009-04-02
Applicant: 日本瑞翁株式会社 , 独立行政法人产业技术总合研究所
IPC: C01B31/02
CPC classification number: C23C16/26 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/162 , C01B32/164 , C01B2202/08 , C01P2004/13 , C23C16/0281
Abstract: 本发明提供一种碳纳米管定向集合体的制造装置及制造方法，该装置在表面含有催化剂的基材上使碳纳米管定向集合体生长，包括：形成单元，其实现形成工序，使催化剂的周围环境成为还原气体环境，并加热催化剂及还原气体中的至少一方；生长单元，其实现生长工序，使催化剂的周围环境成为原料气体环境，并加热催化剂及原料气体中的至少一方使碳纳米管定向集合体生长；及传送单元，其至少将基材从形成单元传送到生长单元。由此可以防止连续制造中CNT定向集合体的制造量下降及品质恶化，与此同时轻易实现装置大型化从而可提高CNT定向集合体的制造效率。
-
公开(公告)号：CN103827024A
公开(公告)日：2014-05-28
申请号：CN201280039624.3
申请日：2012-08-23
Applicant: 日本瑞翁株式会社 , 独立行政法人产业技术总合研究所
IPC: C01B31/02 , B01J23/745 , B82Y30/00 , B82Y40/00
CPC classification number: C01B32/05 , B01J23/745 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/16 , C01B2202/08 , C01B2202/30 , C01B2202/32 , C23C16/4412 , C23C16/45578
Abstract: 本发明的取向碳纳米管集合体的制造装置具备：具备将原料气体喷射到基体材料(111)上的喷射口(12a)的喷射部(12)、排出原料气体的排气口(15)、设有多个排气口(13a)的排气部(13)，多个排气口(13a)位于比多个喷射口(12a)更靠近排气口(15)的一侧。
-
公开(公告)号：CN102741161A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN200980100516.0
申请日：2009-04-02
Applicant: 日本瑞翁株式会社 , 独立行政法人产业技术总合研究所
IPC: C01B31/02
CPC classification number: C23C16/26 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/162 , C01B32/164 , C01B2202/08 , C01P2004/13 , C23C16/0281
Abstract: 本发明提供一种碳纳米管定向集合体的制造装置及制造方法，该装置在表面含有催化剂的基材上使碳纳米管定向集合体生长，包括：形成单元，其实现形成工序，使催化剂的周围环境成为还原气体环境，并加热催化剂及还原气体中的至少一方；生长单元，其实现生长工序，使催化剂的周围环境成为原料气体环境，并加热催化剂及原料气体中的至少一方使碳纳米管定向集合体生长；及传送单元，其至少将基材从形成单元传送到生长单元。由此可以防止连续制造中CNT定向集合体的制造量下降及品质恶化，与此同时轻易实现装置大型化从而可提高CNT定向集合体的制造效率。
-
公开(公告)号：CN114929621B
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN202180008111.5
申请日：2021-02-15
Applicant: 日本瑞翁株式会社
IPC: C01B32/162 , C01B32/164
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够高效地生产高品质的碳纳米管集合体的碳纳米管集合体的制造方法。本发明涉及一种使碳纳米管集合体在表面具有催化剂的基材上生长的制造方法。在该制造方法中，分别在形成单元和生长单元中使用运送单元连续地运送基材，所述形成单元进行使基材上的催化剂成为还原状态的形成工序，所述生长单元进行使碳纳米管集合体生长的生长工序，所述运送单元通过螺杆旋转来运送基材。而且，在实施形成工序和生长工序时，在防止这些工序中的气体环境相互混入的同时实施这两个工序。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
21
records
(took 0.037 seconds)
