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公开(公告)号：CN117813576A
公开(公告)日：2024-04-02
申请号：CN202280055781.7
申请日：2022-08-22
Applicant: 日本电气硝子株式会社
Abstract: 本发明提供基于输入笔的书写感觉、基于指尖的接触感觉等触感优异的玻璃构件、具备该玻璃构件的玻璃构件层叠体、输入装置、输入显示装置、外装用玻璃构件、壳体、门体、容器以及该玻璃构件的制造方法。一种玻璃构件，具备主面，所述主面具有凹凸，其中，所述凹凸具有：第一凹凸，其将高通滤波器λc1的截止值设为14μm且将低通滤波器λs1的截止值设为0.35μm时的算术平均高度Sa1为2～500nm，粗糙度曲线要素的平均长度RSm1为2～100μm；以及第二凹凸，其在一边为5μm的正方形的区域中将高通滤波器λc2的截止值设为2.5μm时，算术平均高度Sa2为0.7～50nm。
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公开(公告)号：CN119866320A
公开(公告)日：2025-04-22
申请号：CN202380065811.7
申请日：2023-10-26
Applicant: 日本电气硝子株式会社
Abstract: 本发明提供一种具有优异拨水性的玻璃部件。一种玻璃部件(1)，其中，该玻璃部件(1)在表面(1a)的至少一部分具有凹凸，在具有凹凸的表面(1a)的96μm×72μm的区域内，将凹凸的平均面作为基准面时，距基准面具有50nm以上的高度的凸部的数量为10以上250以下，在具有凹凸的表面(1a)的5μm×5μm的微小区域内，将高通滤波器λc的截止值设为2.5μm时，算术平均高度Sa为1.0nm以上50.0nm以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117882040A
公开(公告)日：2024-04-12
申请号：CN202280058518.3
申请日：2022-08-30
Applicant: 日本电气硝子株式会社
Abstract: 本发明提供一种输入笔的书写感觉、指尖的触摸感觉等触感优异的玻璃构件、具备该玻璃构件的输入装置、笔输入装置及移动设备、以及该玻璃构件的制造方法。在主面(表面)(21a)的至少一部分具有微小凹凸(10)，在该微小凹凸(10)中的一边为5μm的正方形的区域内的面的负载曲线(T(Ta))中，通过对负载面积率为10％至99％的范围进行基于最小二乘法的一元回归分析而得到的回归直线(L(La))的决定系数(R2)为0.600以上且0.960以下。
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公开(公告)号：CN117677591A
公开(公告)日：2024-03-08
申请号：CN202280050982.8
申请日：2022-08-19
Applicant: 日本电气硝子株式会社
Abstract: 本发明提供一种即使不在表面形成拨水性覆膜也具有优异的拨水性的拨水性玻璃部件(1)。该拨水性玻璃部件(1)的表面(1a)具有凹凸，在具有凹凸的表面(1a)的5μm×5μm的区域内，在将高通滤波器λc的截止值设为2.5μm时，粗糙度曲线的要素的平均长度(RSm1)为70nm以上800nm以下，在具有凹凸的表面(1a)的140μm×105μm的区域内，在将低通滤波器λs的截止值设为0.80μm时，粗糙度曲线的要素的平均长度(RSm2)为3.0μm以上100.0μm以下。
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公开(公告)号：CN117377935A
公开(公告)日：2024-01-09
申请号：CN202280036760.0
申请日：2022-05-24
Applicant: 日本电气硝子株式会社
IPC: G06F3/041
Abstract: 本发明提供一种在向输入装置的输入操作中能够实现优异的书写感觉的输入装置用盖板构件以及输入装置。在作为配置于输入装置(10)中的显示器元件(30)的前表面侧的输入装置用盖板构件的玻璃基板(20)中的至少一个主面(20a)具有凹凸形状，具有所述凹凸形状的主面(20a)中的、粗糙度曲线要素的最大谷深度(Rv)大于粗糙度曲线要素的最大峰高度(Rp)。
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公开(公告)号：CN118891604A
公开(公告)日：2024-11-01
申请号：CN202380027926.7
申请日：2023-06-29
Applicant: 日本电气硝子株式会社
Abstract: 本发明提供一种触觉呈现器件用顶板，能充分增大摩擦力的变化幅度，有效提高触觉的表现力。触觉呈现器件用顶板(1)是用于触觉呈现器件(10)的顶板(1)，具有位于触觉呈现器件(10)的外侧的外侧主面(1a)，在外侧主面(1a)的至少一部分设置有凹凸，凹凸具有：第1凹凸，在将高频滤波器(λc1)的截止值设为测量截面曲线的凹凸的间隔的5倍的值且将低通滤波器(λs1)的截止值设为26.6μm时，凹凸的最大高度为0.5nm～2000nm，且凹凸的间隔为50μm～2000μm；和第2凹凸，在将高频滤波器(λc2)的截止值设为14μm且将低通滤波器(λs2)的截止值设为0.35μm时，凹凸的三维算术平均高度(Sa)为0.5nm～100nm，且凹凸的最大高度(Sz)为8nm以上。
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公开(公告)号：CN116635188A
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202180083340.3
申请日：2021-12-10
Applicant: 日本电气硝子株式会社
IPC: B24C1/06
Abstract: 本发明提供一种无机构件以及无机构件的制造方法，能够通过简便的方法在无机构件的表面形成微小凹凸，通过控制该凹凸的形状，从而不形成(成膜)有机氟系的覆膜，就能够实现耐久性优异的对于水的低润湿性。在主面(1a，表面)的至少一部分具有微小凹凸(2)，该微小凹凸(2)的偏度Ssk为‑0.1以下。另外，上述微小凹凸(2)通过执行湿式喷砂处理从而形成。
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