EUV透过膜
    1.
    发明公开
    EUV透过膜 审中-实审

    公开(公告)号:CN118076920A

    公开(公告)日:2024-05-24

    申请号:CN202180055382.6

    申请日:2021-10-20

    Abstract: 本发明提供兼备实用水平高的EUV透过率和低压氢气氛环境下的耐久性的EUV透过膜。该EUV透过膜具备:由金属铍构成的主层、以及将主层的至少单面覆盖的由氮化铍构成的保护层。

    EUV透过膜及其使用方法、以及曝光方法

    公开(公告)号:CN119895329A

    公开(公告)日:2025-04-25

    申请号:CN202280007488.3

    申请日:2022-09-15

    Abstract: 本发明提供一种EUV透过膜,其能够抑制构成EUV透过率降低的主要原因的保护层对EUV的吸收,由此在曝光时能够体现出较高的EUV透过率。该EUV透过膜具备:主层(12),其波长13.5nm处的EUV透过率为85%以上,且由单层或2层以上的复合层构成;以及保护层(14),其将主层的至少单面覆盖,且包含选自由非晶质碳、Cu、Al及有机抗蚀剂构成的组中的至少1种作为主成分。

    EUV透过膜
    3.
    发明公开
    EUV透过膜 审中-实审

    公开(公告)号:CN118140177A

    公开(公告)日:2024-06-04

    申请号:CN202280007294.3

    申请日:2022-09-15

    Abstract: 本发明提供EUV透过率及IR放射率均较高的EUV透过膜。该EUV透过膜为波长13.5nm处的EUV透过率为80.0%以上的EUV透过膜,其具备:波长2μm处的IR放射率为2.0%以上的主层、以及将主层的至少单面覆盖的波长2μm处的IR透过率为70%以上的保护层。

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