公开(公告)号：CN102939404A

公开(公告)日：2013-02-20

申请号：CN201180024693.2

申请日：2011-04-20

Applicant: 日本磁性技术株式会社

Inventor： 鹭坂圭亮 ,  野口义文

IPC: C23C14/32 ,  H05H1/48

CPC classification number: H05H1/50 ,  C23C14/325 ,  H01J37/32055 ,  H01J37/3402

Abstract: 本发明的目的在于提供使利用转动等离子体进行的等离子体处理稳定且可以控制、并可以提高等离子体处理质量的等离子体流生成方法、等离子体处理方法、等离子体发生装置和使用它的等离子体处理装置。4个象限（Z1～Z4）中的各频率被设定为7、15、6、20Hz。利用该频率可变，可以使被分割成4个的转动角区域中的等离子体的转动速度不同。由于等离子体（P2、P4）的周向转动速度比等离子体（P1、P3）快，所以可以照射边描绘圆轨道（C）边从等离子体（P1）到（P2）、（P3）、（PB4）周期性变速转动的转动等离子体，可以在第一象限（Z1）～第四象限（Z4）中实施均匀的成膜处理。