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公开(公告)号：CN114131435B
公开(公告)日：2023-04-25
申请号：CN202111458446.5
申请日：2021-12-02
申请人： 日禺光学科技(苏州)有限公司
发明人： 肖志宏
摘要： 本发明公开了一种光学透镜冷加工抛光工艺，涉及光学透镜加工领域，包括一下步骤：步骤一：选择合适且可塑形的抛光盘；步骤二：加工抛光盘；步骤三：设置合适的抛光环境；步骤四：对光学透镜加工抛光。本发明通过恒温的抛光液池喷出恒压的抛光液，以此来对透镜进行降温，使对光学透镜抛光的温度控制在四十度左右，大大提高了抛光光学透镜的良品率，提高抛光盘的表面光洁度，大大提高了抛光效率，经过加工后的抛光盘也可提高工件的面型精度，完成对工件的抛光且兼顾工件的面型精度，对抛光工作人员要求较低，工作效率高，生产经济效益好。
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公开(公告)号：CN113814837A
公开(公告)日：2021-12-21
申请号：CN202111036084.0
申请日：2021-09-06
申请人： 日禺光学科技(苏州)有限公司
发明人： 肖志宏
IPC分类号： B24B13/00 , B24B13/005 , B24B55/06 , B24B27/00 , B24B55/00
摘要： 本发明公开了一种非球面光学元件的抛光方法和装置，涉及光学元件抛光技术领域，本发明包括装置主体，装置主体的一侧设置有安装筒，安装筒的顶部安装有第一伺服电机，本发明设置有第二伺服电机、第二丝杆、第二螺纹套、齿杆、转轴以及齿块，在抛光过程中，操控面板控制第二伺服电机规律性正反旋转，以此使得第二丝杆规律性正反旋转，从而使得第二螺纹套往复性左右移动，进而带动齿杆往复性移动，齿杆与齿块啮合，因此在转轴的作用下，固定槽则左右摆动，固定槽左右摆动使得元件做弧形摆动，因此使得打磨件可充分的与元件接触，提高了元件的抛光效果，满足了光学元件抛光装置使用的需求。
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公开(公告)号：CN113787451A
公开(公告)日：2021-12-14
申请号：CN202111059983.2
申请日：2021-09-10
申请人： 日禺光学科技(苏州)有限公司
发明人： 肖志宏
IPC分类号： B24B37/10 , B24B37/20 , B24B37/34 , B24B37/005 , B24B49/00 , B24B57/02 , B24B41/02 , B08B11/00 , B08B3/02 , B08B13/00 , F26B21/00 , H01L21/67 , H01L21/683
摘要： 本发明公开了一种光有源器件半导体衬底的数控抛光装置及工艺，涉及抛光装置领域，包括工作台，所述工作台顶部两侧皆设置有安装板，且工作台内部底部安装有真空泵，一块所述安装板内侧壁一端滑动连接有第一滑块，且另一块安装板内侧壁远离第一滑块的一端滑动连接有第二滑块，所述第一滑块一端两侧皆安装有第二气缸。本发明通过在第四气缸上安装一组控制接料盘的第五气缸，且在水箱上安装水泵与热风机，在衬底一面抛光完成后，接料盘挡在抛光垫与抛光台之间，防止抛光垫上的抛光液滴落在衬底上，水泵与热风机再将衬底抛光完成的一面清洗干燥，防止在抛光衬底另一面时衬底上的残留物使衬底不平整降低抛光效果。
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公开(公告)号：CN116047781A
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN202211422620.5
申请日：2022-11-14
申请人： 日禺光学科技(苏州)有限公司
发明人： 肖志宏
IPC分类号： G02B27/42
摘要： 本发明公开了一种含温控单元的衍射光学装置，涉及衍射光学装置领域，包括底座与安装壳，所述安装壳内滑动设置有内板，所述内板的内部设置有数组束光器，且位于其顶部设置有温控器，所述底座内的一侧设置有二向色镜，且安装壳的内侧位于二向色镜的背部设置有半导体片，所述半导体片的内依次设置有N型半导体与P型半导体，所述半导体片的一侧设置有数组导热柱。本发明通过T形槽与T形块的配合使得内板处于悬空状态，保证其内部的散热效率，通过温控器接通数组半导体片的电源，P形半导体与N形半导体两者之间通过导流条相连，使用时两端之间形成热量转移，实现对内板内部的光学元件整体进行散热，进一步提高其内部的散热效率。
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公开(公告)号：CN112873034B
公开(公告)日：2023-02-10
申请号：CN202110141134.5
申请日：2021-02-02
申请人： 日禺光学科技(苏州)有限公司
摘要： 本发明公开了一种珩磨式磁流变抛光方法及装置，涉及磁流变抛光领域，包括底板，所述底板的一端安装有第一电机，且第一电机的输出端连接有丝杆，所述丝杆的下方设置有套杆，且套杆和丝杆的外侧皆设置有滑块，所述滑块的顶端连接有移动板，所述底板的顶端设置有固定板，且固定板的一侧安装有第二电机，所述第二电机的输出端连接有第一皮带轮，且第一皮带轮的上方设置有第二皮带轮。本发明实现了长杆件也可以被磁力针进行抛光打磨，其外侧和内部皆可以被抛光，通过转动桶移动旋转的方式可以使得磁力针在杆件外侧进行转动，杆件通过第二电机可以发生转动，两组转动相结合可以使得杆件被更好的进行抛光，且抛光效率高，抛光效果好。
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公开(公告)号：CN112792706A
公开(公告)日：2021-05-14
申请号：CN202110141133.0
申请日：2021-02-02
申请人： 日禺光学科技(苏州)有限公司
摘要： 本发明公开了一种可根据需要更换夹具的机器人抛光装置，属于抛光技术领域，包括装置主体，所述装置主体的顶部设置有支撑架，所述支撑架内侧的顶端安装有第一电磁滑轨，所述第一电磁滑轨的底部滑动连接有第二电磁滑轨，所述第二电磁滑轨的底部安装有液压推杆。本发明通过使第一电磁滑轨和第二电磁滑轨在电力作用下产生环绕型磁场，带动液压推杆移动至放有适合夹具的放置槽正上方，然后延长液压推杆输出端的长度，使支架移动至凸起块的外侧，然后在磁块和铁块的作用下，使凸起块直接在磁性吸力下吸附在磁块上，然后液压推杆在第一电磁滑轨作用下朝左移动，缓缓使限位块从放置槽内移出，从而实现快速对接，并固定。
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公开(公告)号：CN114012515B
公开(公告)日：2022-11-18
申请号：CN202111458179.1
申请日：2021-12-02
申请人： 日禺光学科技(苏州)有限公司
发明人： 肖志宏
摘要： 本发明公开了一种高面型高粗糙度的光学器件抛光方法，涉及光学器件加工技术领域,包括以下步骤：步骤一：制作抛光盘基底；步骤二：制作稀土抛光盘；步骤三：抛光盘仿形加工；步骤四：抛光盘磁流变精修；步骤五：光学器件抛光。本发明使用经过配比的稀土制作稀土抛光盘，根据待加工零件通过仿形加工出较高面型精度的抛光盘，使用磁流变抛光方式对抛光盘抛光，提高抛光盘的表面光洁度，再使用制作好的抛光盘对工件进行抛光，稀土抛光盘大大提高了抛光效率，经过仿形加工后的抛光盘也可提高工件的面型精度，完成对工件的抛光且兼顾工件的面型精度，对抛光工作人员要求较低，工作效率高，生产经济效益好。
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公开(公告)号：CN112792706B
公开(公告)日：2022-11-18
申请号：CN202110141133.0
申请日：2021-02-02
申请人： 日禺光学科技(苏州)有限公司
摘要： 本发明公开了一种可根据需要更换夹具的机器人抛光装置，属于抛光技术领域，包括装置主体，所述装置主体的顶部设置有支撑架，所述支撑架内侧的顶端安装有第一电磁滑轨，所述第一电磁滑轨的底部滑动连接有第二电磁滑轨，所述第二电磁滑轨的底部安装有液压推杆。本发明通过使第一电磁滑轨和第二电磁滑轨在电力作用下产生环绕型磁场，带动液压推杆移动至放有适合夹具的放置槽正上方，然后延长液压推杆输出端的长度，使支架移动至凸起块的外侧，然后在磁块和铁块的作用下，使凸起块直接在磁性吸力下吸附在磁块上，然后液压推杆在第一电磁滑轨作用下朝左移动，缓缓使限位块从放置槽内移出，从而实现快速对接，并固定。
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公开(公告)号：CN114131435A
公开(公告)日：2022-03-04
申请号：CN202111458446.5
申请日：2021-12-02
申请人： 日禺光学科技(苏州)有限公司
发明人： 肖志宏
摘要： 本发明公开了一种光学透镜冷加工抛光工艺，涉及光学透镜加工领域，包括一下步骤：步骤一：选择合适且可塑形的抛光盘；步骤二：加工抛光盘；步骤三：设置合适的抛光环境；步骤四：对光学透镜加工抛光。本发明通过恒温的抛光液池喷出恒压的抛光液，以此来对透镜进行降温，使对光学透镜抛光的温度控制在四十度左右，大大提高了抛光光学透镜的良品率，提高抛光盘的表面光洁度，大大提高了抛光效率，经过加工后的抛光盘也可提高工件的面型精度，完成对工件的抛光且兼顾工件的面型精度，对抛光工作人员要求较低，工作效率高，生产经济效益好。
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公开(公告)号：CN113732875A
公开(公告)日：2021-12-03
申请号：CN202111036121.8
申请日：2021-09-06
申请人： 日禺光学科技(苏州)有限公司
发明人： 肖志宏
摘要： 本发明公开了一种非球面镜抛光工艺及其抛光盘，涉及抛光技术领域，本发明包括抛光盘本体，抛光盘本体顶部中间固定有安装轴套，抛光盘本体的顶部四周固定有储液盒，抛光盘本体的底部设置有抛光组件。本发明通过设置有抛光组件，在抛光盘本体进行使用时，通过安装轴套将抛光盘安装在铣磨机上，之后通过抛光层可对待加工镜片初步抛光，且通过海绵垫可进行二次抛光，通过随着抛光盘对待加工镜片，处于储液盒内部的液体可通过渗透绳渗透至海绵垫上，随着海绵垫抛光涂在待加工镜片上，从而起到降温冷却的作用，使得抛光更加安全稳定，避免了抛光盘与镜面接触摩擦产生高温使得抛光盘磨损的情况。
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