影像显示装置用的光反射构件及其制造方法

    公开(公告)号:CN1621864A

    公开(公告)日:2005-06-01

    申请号:CN200410042434.4

    申请日:2004-05-18

    Abstract: 本发明公开了一种具有高可见光反射特性的影像显示装置用的光反射层、使用此光反射层形成的影像显示装置用构件及影像显示装置用构件的制造方法。此种用于影像显示装置的光反射构件,光反射构件为至少一部分分相化或结晶化的双相期形态的氧化物,此氧化物为硅系氧化物,此硅系氧化物含有莫耳比率50%以上的硅氧化物。上述的影像显示装置用光反射构件,较佳是含有莫耳比率5~40%的碱金族盐类及碱土族盐类的至少一种以上的硅系氧化物的影像显示装置用光反射构件。此影像显示装置用光反射构件的制造方法是以气相沉积法沉积含有莫耳比率50%以上的硅氧化物的硅系氧化物;之后,进行加热处理,使上述硅系氧化物的至少一部分分相化或结晶化而成为双相期形态的氧化物。

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