公开(公告)号：CN119384524A

公开(公告)日：2025-01-28

申请号：CN202380042267.4

申请日：2023-06-28

Applicant: 旭化成株式会社

Inventor： 和田义史 ,  川井智美 ,  船川明恭 ,  角佳典

IPC: C25B15/00 ,  C25B1/46 ,  C25B9/00 ,  C25B9/77 ,  C25B11/052 ,  C25B11/081

Abstract: 目的在于提供用于以非侵袭的方式对电解槽具有的电极中包含的稀有金属的残留量进行评价的装置和方法。一种装置，其具有管理部，该管理部基于具备一个或多个电解单元的电解槽的运转历史信息，来记录所述电解单元具有的电极的使用历史信息。

公开(公告)号：CN119301309A

公开(公告)日：2025-01-10

申请号：CN202380042268.9

申请日：2023-06-28

Applicant: 旭化成株式会社

Inventor： 和田义史 ,  川井智美 ,  船川明恭 ,  角佳典

IPC: C25B15/00 ,  C25B1/46 ,  C25B9/00 ,  C25B9/77 ,  C25B11/052 ,  C25B11/081

Abstract: 目的在于提供用于以非侵袭的方式对电解槽具有的电极中包含的稀有金属的残留量进行评价的装置和方法。一种装置，其具有残量预测部，该残量预测部基于具备一个或多个电解单元的电解槽的运转历史信息，来预测该电解槽的所述电解单元具有的电极的贵金属涂层残量。