导电性层积体的制造方法

    公开(公告)号:CN101945564A

    公开(公告)日:2011-01-12

    申请号:CN201010293454.4

    申请日:2005-10-31

    IPC分类号: H05K9/00

    CPC分类号: H05K9/0096 H01J2211/446

    摘要: 本发明提供一种导电性层积体的制造方法,所述的导电性层积体具有基体和形成于基体上的导电膜,在基体表面上通过以下工序形成导电膜:(A)使用氧化钛粉末和氧化锌粉末制造的靶材,通过溅射法形成氧化物层的工序,(B)使用银靶材或银合金靶材,通过溅射法形成金属层的工序,重复前述(A)、(B)的工序计2n次,n为1以上的整数,最后由(A)工序形成氧化物层,从而形成为自基体侧总计交错层积了(2n+1)层氧化物层和金属层的多层结构体的导电膜。