一种硅胶阻气膜
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114507371A

    公开(公告)日:2022-05-17

    申请号:CN202011318833.4

    申请日:2020-11-23

    发明人: 邓仕杰 黄如慧

    摘要: 本发明公开了一种硅胶阻气膜,其包含:一聚对苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate)膜;一无机镀膜层,配置于聚对苯二甲酸乙二酯膜的一表面上;以及一第一硅胶层,配置于聚对苯二甲酸乙二酯膜相对于无机镀膜层的另一表面上。第一硅胶层是经由固化一第一可固化硅树脂组成物而形成。本发明的硅胶阻气膜的水气穿透率(WVTR)不大于0.5gm‑2day‑1,25℃‑50℃热膨胀系数(CTE)介于5ppm/℃至10ppm/℃的间,且可见光穿透率大于93%。

    具阻水气特性的硅胶薄膜

    公开(公告)号:CN112898780A

    公开(公告)日:2021-06-04

    申请号:CN201911305926.0

    申请日:2019-12-18

    发明人: 邓仕杰 黄如慧

    摘要: 本发明公开了一种具阻水气特性的硅胶薄膜,其是经由固化一可固化硅树脂组成物而形成,其中该可固化硅树脂组成物包含10至25重量份的线性聚硅氧烷;40至55重量份的一第一硅树脂,其中用于表示第一硅树脂的平均单元结构式至少具有R1SiO3/2单体以及R22SiO2/2单体,且该R1SiO3/2单体于平均单元结构式中所占的摩尔分率是介于0.60至0.75;15至30重量份的一第二硅树脂;15至25重量份的含硅氢键之聚硅氧烷;10至40重量份的微层片以及一铂族金属是催化剂。

    一种优化原子层沉积的方法

    公开(公告)号:CN113005424B

    公开(公告)日:2022-05-06

    申请号:CN201911321990.8

    申请日:2019-12-20

    发明人: 邓仕杰 黄如慧

    摘要: 本发明公开了一种优化原子层沉积的方法,包含下列步骤:(A)提供一纤维素纳米纤维;(B)以一酸化处理剂对纤维素纳米纤维进行一酸化处理;(C)以一疏水处理剂对经酸化处理的纤维素纳米纤维进行一疏水处理;(D)将经酸化及疏水处理的纤维素纳米纤维溶于一溶剂中,形成一纤维素纳米纤维溶液;(E)将纤维素纳米纤维溶液涂布于一硅胶薄膜上;(F)对涂布后的硅胶薄膜进行一加热处理,以在硅胶薄膜的表面上形成一纤维素纳米纤维层;以及(G)以原子层沉积法(Atomic Layer Deposition,ALD)在具有纤维素纳米纤维层的硅胶薄膜表面形成一无机镀膜层。

    一种优化原子层沉积的方法

    公开(公告)号:CN113005424A

    公开(公告)日:2021-06-22

    申请号:CN201911321990.8

    申请日:2019-12-20

    发明人: 邓仕杰 黄如慧

    摘要: 本发明公开了一种优化原子层沉积的方法,包含下列步骤:(A)提供一纤维素纳米纤维;(B)以一酸化处理剂对纤维素纳米纤维进行一酸化处理;(C)以一疏水处理剂对经酸化处理的纤维素纳米纤维进行一疏水处理;(D)将经酸化及疏水处理的纤维素纳米纤维溶于一溶剂中,形成一纤维素纳米纤维溶液;(E)将纤维素纳米纤维溶液涂布于一硅胶薄膜上;(F)对涂布后的硅胶薄膜进行一加热处理,以在硅胶薄膜的表面上形成一纤维素纳米纤维层;以及(G)以原子层沉积法(Atomic Layer Deposition,ALD)在具有纤维素纳米纤维层的硅胶薄膜表面形成一无机镀膜层。