公开(公告)号：CN105895123A

公开(公告)日：2016-08-24

申请号：CN201610088013.8

申请日：2016-02-16

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 丸山良彦 ,  S·阿南德哈 ,  Y·A·邱 ,  中村悟 ,  田沼广光 ,  山川荣进

IPC: G11B5/725

CPC classification number: G11B5/725

Abstract: 本发明涉及磁记录介质和磁记录再现装置。提供可以有效地防止磁记录介质的表面污染、可以防止磁记录介质上存在的污染物质向磁头附着(转印)的磁记录介质和具备其的磁记录再现装置。将磁记录介质的碳保护层氮化，作为润滑剂，混合使用下述通式(1)所示的化合物A和下述通式(2)所示的化合物B。R1?C6H4OCH2CH(OH)CH2OCH2?R2?CH2OCH2CH(OH)CH2OH‥‥(1)CH2(OH)CH(OH)CH2OCH2CF2CF2(OCF2CF2CF2)mOCF2CF2CH2OCH2CH(OH)CH2OH‥‥(2)。

公开(公告)号：CN105895123B

公开(公告)日：2019-01-18

申请号：CN201610088013.8

申请日：2016-02-16

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 丸山良彦 ,  S·阿南德哈 ,  Y·A·邱 ,  中村悟 ,  田沼广光 ,  山川荣进

IPC: G11B5/725

Abstract: 本发明涉及磁记录介质和磁记录再现装置。提供可以有效地防止磁记录介质的表面污染、可以防止磁记录介质上存在的污染物质向磁头附着(转印)的磁记录介质和具备其的磁记录再现装置。将磁记录介质的碳保护层氮化，作为润滑剂，混合使用下述通式(1)所示的化合物A和下述通式(2)所示的化合物B。R1‑C6H4OCH2CH(OH)CH2OCH2‑R2‑CH2OCH2CH(OH)CH2OH‥‥(1)CH2(OH)CH(OH)CH2OCH2CF2CF2(OCF2CF2CF2)mOCF2CF2CH2OCH2CH(OH)CH2OH‥‥(2)。

公开(公告)号：CN102356431A

公开(公告)日：2012-02-15

申请号：CN201080012020.0

申请日：2010-03-16

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 加藤顺也 ,  丸山良彦

IPC: G11B5/84

CPC classification number: G11B5/84 ,  G11B5/725 ,  Y10T436/20

Abstract: 本发明提供可以防止污染物质、腐蚀物对磁头附着(转印)的磁记录介质的检查方法。一种磁记录介质的检查方法，是在非磁性基板上至少具有磁性层、保护层、润滑剂层的磁记录介质的检查方法，其特征在于，将所述磁记录介质曝露于包含硅氧烷的气氛，根据所述硅氧烷在所述磁记录介质表面的附着量来检查该磁记录介质对环境物质的耐性。