公开(公告)号：CN1312233C

公开(公告)日：2007-04-25

申请号：CN00803759.0

申请日：2000-01-11

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 和田纮一 ,  石井伸晃 ,  入江满治 ,  关口和夫 ,  高间道裕

IPC: C09C3/12 ,  C09C3/10 ,  C09C1/36 ,  C09C1/04 ,  A61Q17/04 ,  C01B13/14 ,  C01B33/12 ,  C01G9/02 ,  C01G23/047 ,  C01G25/02 ,  C01F17/00 ,  B01J13/00

CPC classification number: A61K8/585 ,  A61K8/0212 ,  A61K8/11 ,  A61K8/19 ,  A61K8/25 ,  A61K8/27 ,  A61K8/28 ,  A61K8/29 ,  A61K2800/262 ,  A61K2800/413 ,  A61Q1/02 ,  A61Q1/06 ,  A61Q17/04 ,  A61Q19/00 ,  B01J13/0047 ,  B01J13/0069 ,  B01J13/02 ,  B01J13/22 ,  B82Y30/00 ,  C01P2004/62 ,  C01P2004/64 ,  C01P2006/12 ,  C09C1/043 ,  C09C1/3684 ,  C09C3/006 ,  C09C3/063 ,  C09C3/12

Abstract: 本发明提供(1)一种化妆料，其中含有进一步用疏水性赋予剂对二氧化硅被覆金属氧化物粒子进行表面处理而成的粒子、(2)一种粒子及其制造方法，该粒子是进一步用疏水性赋予剂处理具有特定的红外吸收光谱强度之比和折射率的金属氧化物粒子而成的。另外，本发明还提供一种用于制造该粒子的二氧化硅被覆金属氧化物溶胶及其制造方法。根据本发明，可以制得该粒子良好地分散、透明感优良的紫外线遮断用化妆料。

公开(公告)号：CN1340086A

公开(公告)日：2002-03-13

申请号：CN00803759.0

申请日：2000-01-11

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 和田纮一 ,  石井伸晃 ,  入江满治 ,  关口和夫 ,  高间道裕

IPC: C09C3/12 ,  C09C3/10 ,  C09C1/36 ,  C09C1/04 ,  A61K7/42 ,  C01B13/14 ,  C01B33/12 ,  C01G9/02 ,  C01G23/047 ,  C01G25/02 ,  C01F17/00 ,  B01J13/00

CPC classification number: A61K8/585 ,  A61K8/0212 ,  A61K8/11 ,  A61K8/19 ,  A61K8/25 ,  A61K8/27 ,  A61K8/28 ,  A61K8/29 ,  A61K2800/262 ,  A61K2800/413 ,  A61Q1/02 ,  A61Q1/06 ,  A61Q17/04 ,  A61Q19/00 ,  B01J13/0047 ,  B01J13/0069 ,  B01J13/02 ,  B01J13/22 ,  B82Y30/00 ,  C01P2004/62 ,  C01P2004/64 ,  C01P2006/12 ,  C09C1/043 ,  C09C1/3684 ,  C09C3/006 ,  C09C3/063 ,  C09C3/12

Abstract: 本发明提供(1)一种化妆料,其中含有进一步用疏水性赋予剂对二氧化硅被覆金属氧化物粒子进行表面处理而成的粒子、(2)一种粒子及其制造方法,该粒子是进一步用疏水性赋予剂处理具有特定的红外吸收光谱强度之比和折射率的金属氧化物粒子而成的。另外,本发明还提供一种用于制造该粒子的二氧化硅被覆金属氧化物溶胶及其制造方法。根据本发明,可以制得该粒子良好地分散、透明感优良的紫外线遮断用化妆料。