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公开(公告)号:CN1372488A
公开(公告)日:2002-10-02
申请号:CN01801169.1
申请日:2001-05-24
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: B01D53/02 , B01D53/685 , B01D53/8659 , B01D2253/102 , B01D2253/108 , B01D2253/112 , B01D2253/304 , B01D2253/306 , B01D2255/20738 , B01D2257/20 , B01D2258/0216 , B01J21/18 , B01J23/78 , Y02C20/30
Abstract: 本发明涉及提供一种除去有害气体的试剂和方法,它们对制造半导体器件过程的蚀刻或清洗步骤的废气中包含的含卤素气体具有高的单位体积除去能力,而且价格低廉。本发明特点是使用包括一定量的特定氧化铁、碱土金属化合物和活性炭的除害剂可以除去含卤素气体。当废气中包含如氯的含卤素气体或如二氧化硫的气体时,通过组合使用包括活性炭或沸石的除害剂,可以使这些气体无害。
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公开(公告)号:CN1241672C
公开(公告)日:2006-02-15
申请号:CN01801169.1
申请日:2001-05-24
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: B01D53/02 , B01D53/685 , B01D53/8659 , B01D2253/102 , B01D2253/108 , B01D2253/112 , B01D2253/304 , B01D2253/306 , B01D2255/20738 , B01D2257/20 , B01D2258/0216 , B01J21/18 , B01J23/78 , Y02C20/30
Abstract: 本发明涉及提供一种除去有害气体的试剂和方法,它们对制造半导体器件过程的蚀刻或清洗步骤的废气中包含的含卤素气体具有高的单位体积除去能力,而且价格低廉。本发明特点是使用包括一定量的特定氧化铁、碱土金属化合物和活性炭的除害剂可以除去含卤素气体。当废气中包含如氯的含卤素气体或如二氧化硫的气体时,通过组合使用包括活性炭或沸石的除害剂,可以使这些气体无害。
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公开(公告)号:CN1457271A
公开(公告)日:2003-11-19
申请号:CN02800417.5
申请日:2002-02-27
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: B01J23/60 , B01D53/86 , B01D53/8628 , B01D2255/102 , B01D2255/20 , B01D2255/2073 , B01D2255/20738 , B01D2255/2092 , B01D2255/30 , B01D2257/402 , B01J23/005 , B01J23/44 , B01J23/46 , B01J23/6562 , B01J23/8906 , Y02C20/10
Abstract: 本发明提供了一种通过将至少一种选自铑、钌和钯的贵金属载于选自二氧化硅和氧化硅铝的载体上得到的催化剂以及一种使用所述催化剂分解一氧化二氮的方法。本发明用于分解一氧化二氮的催化剂不易受废弃麻醉气体中含有的挥发性麻醉剂影响,即使活性变差可以通过活化和再生恢复活性,并且能够将NOx的产生量降低到低于允许浓度。
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