公开(公告)号：CN1221015C

公开(公告)日：2005-09-28

申请号：CN03153701.4

申请日：2003-08-18

申请人： 显像制造服务株式会社

发明人： 李硕周 ,  朴起范

IPC分类号： H01L21/302 ,  B08B3/00 ,  H01J9/00

摘要： 一种具有改良式气体混合装置的湿机台，可以缩小湿机台的尺寸以及湿机台需要的处理时间，气体混合装置会被装置在一个供应化学溶液并放置在一个溶液槽与储存槽之间的供应管内，透过喷洒跟浸泡在一个清洁液内可以处理在溶液槽内的半导体基底。

公开(公告)号：CN1484282A

公开(公告)日：2004-03-24

申请号：CN03153701.4

申请日：2003-08-18

申请人： 显像制造服务株式会社

发明人： 李硕周 ,  朴起范

IPC分类号： H01L21/302 ,  B08B3/00 ,  H01J9/00

摘要： 一种具有改良式气体混合手段的湿机台，可以缩小湿机台的尺寸以及湿机台需要的处理时间，气体混合手段会被装置在一个供应化学溶液并放置在一个溶液槽与储存槽之间的供应管内，透过喷洒跟浸泡在一个清洁液内可以处理在溶液槽内的半导体基底。