控制渗透子垫
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100445091C

    公开(公告)日:2008-12-24

    申请号:CN03819102.4

    申请日:2003-06-09

    IPC分类号: B32B37/00

    CPC分类号: B24B37/22

    摘要: 提供一种无缝抛光垫,包括渗透入多孔子垫(3)的深度基本均匀的无缝抛光层(4)。在一种实施方案中,抛光垫包括通过施加可硬化流体到子垫产生的抛光层。在另一实施方案中,在用可硬化流体涂敷前用防渗层涂敷子垫。在每种实施方案中,抛光层和/或防渗层的渗透深度是基本均匀的。还提供了制造无缝抛光垫的方法,抛光垫包括渗透入多孔子垫的深度基本均匀的无缝抛光层。

    控制渗透子垫
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1675063A

    公开(公告)日:2005-09-28

    申请号:CN03819102.4

    申请日:2003-06-09

    IPC分类号: B32B31/00

    CPC分类号: B24B37/22

    摘要: 提供一种无缝抛光垫,包括渗透入多孔子垫(3)的深度基本均匀的无缝抛光层(4)。在一种实施方案中,抛光垫包括通过施加可硬化流体到子垫产生的抛光层。在另一实施方案中,在用可硬化流体涂敷前用防渗层涂敷子垫。在每种实施方案中,抛光层和/或防渗层的渗透深度是基本均匀的。还提供了制造无缝抛光垫的方法,抛光垫包括渗透入多孔子垫的深度基本均匀的无缝抛光层。