一种用于清洁质谱仪离子源极片的自动清洗装置

    公开(公告)号:CN112605069B

    公开(公告)日:2021-11-02

    申请号:CN202011479929.9

    申请日:2020-12-15

    Applicant: 暨南大学

    Abstract: 本发明公开一种用于清洁质谱仪离子源极片的自动清洗装置,包括离子源单元、红外激光单元和仪器壳体,其中,红外激光单元包括激光发射组件和聚焦透镜,使用时,调整红外激光单元的位置,使其位于离子源极片的底部,激光发射组件开启,调整聚焦透镜与激光发射组件的位置,便于激光光斑聚焦,移动红外激光单元以便将离子源极片中的离子束孔周围的区域临时加热到80‑250℃之间,并保持10min左右的时间,使得沉积在离子源极片中的离子束孔周围的区域的电绝缘体涂层在真空高温中升华而蒸发,从而实现在不需要手动拆卸仪器的情况下自动清洗离子源极片,同时,聚焦透镜与激光发射组件之间的距离能够调整,提高自动清洗装置的使用效率。

    一种质谱仪器极片清洗装置及清洗质谱仪器极片的方法

    公开(公告)号:CN112676270B

    公开(公告)日:2022-02-08

    申请号:CN202011548548.1

    申请日:2020-12-24

    Applicant: 暨南大学

    Abstract: 本发明提供了一种质谱仪器极片清洗装置,包括微波组件和矩管;所述矩管包括由内向外嵌套设置的内管、中管和外管;所述中管一端的管壁上设有开口;所述微波组件包括电连接的固态微波源和耦合环;所述固态微波源设置于矩管外;所述耦合环设置于所述中管上的开口处。本发明提供的质谱仪器极片清洗装置在使用时在中管和内管中通入放电气体,利用固态微波源驱动微波放电,通过耦合环将微波能传输至中管,中管的放电气体点燃等离子体,与内管的放电气体在矩管的管口形成等离子炬焰,形成的等离子炬焰在极片外部进行烧蚀,利用高温使极片上沉积的电绝缘体涂层在真空中升华而蒸发,在无需破真空取出极片就可以实现质谱仪器极片的清洗,简化了清洗工艺。

    一种质谱仪器极片清洗装置及清洗质谱仪器极片的方法

    公开(公告)号:CN112676270A

    公开(公告)日:2021-04-20

    申请号:CN202011548548.1

    申请日:2020-12-24

    Applicant: 暨南大学

    Abstract: 本发明提供了一种质谱仪器极片清洗装置,包括微波组件和矩管;所述矩管包括由内向外嵌套设置的内管、中管和外管;所述中管一端的管壁上设有开口;所述微波组件包括电连接的固态微波源和耦合环;所述固态微波源设置于矩管外;所述耦合环设置于所述中管上的开口处。本发明提供的质谱仪器极片清洗装置在使用时在中管和内管中通入放电气体,利用固态微波源驱动微波放电,通过耦合环将微波能传输至中管,中管的放电气体点燃等离子体,与内管的放电气体在矩管的管口形成等离子炬焰,形成的等离子炬焰在极片外部进行烧蚀,利用高温使极片上沉积的电绝缘体涂层在真空中升华而蒸发,在无需破真空取出极片就可以实现质谱仪器极片的清洗,简化了清洗工艺。

    一种用于清洁质谱仪离子源极片的自动清洗装置

    公开(公告)号:CN112605069A

    公开(公告)日:2021-04-06

    申请号:CN202011479929.9

    申请日:2020-12-15

    Applicant: 暨南大学

    Abstract: 本发明公开一种用于清洁质谱仪离子源极片的自动清洗装置,包括离子源单元、红外激光单元和仪器壳体,其中,红外激光单元包括激光发射组件和聚焦透镜,使用时,调整红外激光单元的位置,使其位于离子源极片的底部,激光发射组件开启,调整聚焦透镜与激光发射组件的位置,便于激光光斑聚焦,移动红外激光单元以便将离子源极片中的离子束孔周围的区域临时加热到80‑250℃之间,并保持10min左右的时间,使得沉积在离子源极片中的离子束孔周围的区域的电绝缘体涂层在真空高温中升华而蒸发,从而实现在不需要手动拆卸仪器的情况下自动清洗离子源极片,同时,聚焦透镜与激光发射组件之间的距离能够调整,提高自动清洗装置的使用效率。

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