一种高效提取集成电路版图光掩膜中心线的设计方法

    公开(公告)号:CN112052640B

    公开(公告)日:2024-09-27

    申请号:CN202010870325.0

    申请日:2020-08-26

    Abstract: 本发明公开一种高效提取集成电路版图光掩膜中心线的设计方法。本发明方法准确率高,鲁棒性好,且对与多种类型的样例具有通用性;采用的核心算法是Delaunay逐点插入法,原理简单,占用内存少,容易完成,执行效率高。同时,由于在对三角网数据处理时中采用了二维vector,空间复杂度可以表示为O(N2),N为样例给出的点数。本发明能够有效实现集成电路版图光掩膜中心线的提取,并且最小化中心点列数量,准确率和速度也能满足工程上的要求。

    一种高效提取集成电路版图光掩膜中心线的设计方法

    公开(公告)号:CN112052640A

    公开(公告)日:2020-12-08

    申请号:CN202010870325.0

    申请日:2020-08-26

    Abstract: 本发明公开一种高效提取集成电路版图光掩膜中心线的设计方法。本发明方法准确率高,鲁棒性好,且对与多种类型的样例具有通用性;采用的核心算法是Delaunay逐点插入法,原理简单,占用内存少,容易完成,执行效率高。同时,由于在对三角网数据处理时中采用了二维vector,空间复杂度可以表示为O(N2),N为样例给出的点数。本发明能够有效实现集成电路版图光掩膜中心线的提取,并且最小化中心点列数量,准确率和速度也能满足工程上的要求。

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