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公开(公告)号:CN110585864B
公开(公告)日:2021-07-27
申请号:CN201910753610.1
申请日:2019-08-15
Applicant: 杭州电子科技大学
Abstract: 本发明公开适用于低温等离子协同催化降解VOCs反应工艺及膜催化剂制备工艺。该方法首先将用于低温等离子体装置的TC4钛合金电极进行阳极氧化处理使其表面形成多孔结构,然后使用涂敷法使得催化剂前驱体附着于电极表面,最终将电极组装成低温等离子体反应器,通过反应器自身高压放电使催化剂和电极一体化,最后与含VOCs废气进行反应。废气在电极中,由于高压和低压的作用,气体分子将上下震动,此过程增大了气体与催化剂的接触面积。本发明有效解决了等离子体反应装置中催化剂填充困难的难题。
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公开(公告)号:CN110585864A
公开(公告)日:2019-12-20
申请号:CN201910753610.1
申请日:2019-08-15
Applicant: 杭州电子科技大学
Abstract: 本发明公开适用于低温等离子协同催化降解VOCs反应工艺及膜催化剂制备工艺。该方法首先将用于低温等离子体装置的TC4钛合金电极进行阳极氧化处理使其表面形成多孔结构,然后使用涂敷法使得催化剂前驱体附着于电极表面,最终将电极组装成低温等离子体反应器,通过反应器自身高压放电使催化剂和电极一体化,最后与含VOCs废气进行反应。废气在电极中,由于高压和低压的作用,气体分子将上下震动,此过程增大了气体与催化剂的接触面积。本发明有效解决了等离子体反应装置中催化剂填充困难的难题。
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