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公开(公告)号：CN1582195A
公开(公告)日：2005-02-16
申请号：CN02813416.8
申请日：2002-07-03
Applicant: 松下电器产业株式会社 , 松下环境空调工程株式会社
CPC classification number: F23G7/065 , B01D53/68 , F23J2217/101 , F23J2217/50
Abstract: 一种排气净化方法及排气净化装置及其所使用的除尘装置，在成膜装置等半导体或者液晶模组的制造装置中产生的排气的净化工序中，可以减少维护作业，或者使其维护作业的安全性提高。其包括：排气的燃烧处理工序；从由燃烧处理生成的燃烧排气中除去含有Si的粉尘的除尘工序；及，将除尘后的燃烧排气进行水性洗涤的洗涤工序。通过该方法，通过除尘工序除去含有Si的粉尘，因此，可以抑制洗涤工序中析出物的析出。因此，使工序稳定运转，并且减少维护作业。另外，不需要大量洗涤水就可以实施洗涤工序。
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公开(公告)号：CN1283343C
公开(公告)日：2006-11-08
申请号：CN02813416.8
申请日：2002-07-03
Applicant: 松下电器产业株式会社 , 松下环境空调工程株式会社
CPC classification number: F23G7/065 , B01D53/68 , F23J2217/101 , F23J2217/50
Abstract: 一种排气净化方法及排气净化装置及其所使用的除尘装置，在成膜装置等半导体或者液晶模组的制造装置中产生的排气的净化工序中，可以减少维护作业，或者使其维护作业的安全性提高。其包括：排气的燃烧处理工序；从由燃烧处理生成的燃烧排气中除去含有Si的粉尘的除尘工序；及，将除尘后的燃烧排气进行水性洗涤的洗涤工序。通过该方法，通过除尘工序除去含有Si的粉尘，因此，可以抑制洗涤工序中析出物的析出。因此，使工序稳定运转，并且减少维护作业。另外，不需要大量洗涤水就可以实施洗涤工序。
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