光学膜及其制造方法
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110082850B

    公开(公告)日:2022-05-17

    申请号:CN201910087264.8

    申请日:2019-01-21

    Abstract: 将进行了热处理时在膜面内收缩成为最大的第1方向上的膜在热处理前后的尺寸变化率设为T1(%)、将在膜面内与上述第1方向垂直的第2方向上的膜在热处理前后的尺寸变化率设为T2(%)、将上述热处理设为在100℃相对湿度0%的条件下放置24小时的处理时,光学膜F满足以下的条件式(1)T1

    光学膜及其制造方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110082850A

    公开(公告)日:2019-08-02

    申请号:CN201910087264.8

    申请日:2019-01-21

    Abstract: 将进行了热处理时在膜面内收缩成为最大的第1方向上的膜在热处理前后的尺寸变化率设为T1(%)、将在膜面内与上述第1方向垂直的第2方向上的膜在热处理前后的尺寸变化率设为T2(%)、将上述热处理设为在100℃相对湿度0%的条件下放置24小时的处理时,光学膜F满足以下的条件式(1)T1

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