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公开(公告)号：CN107921751A
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：CN201680046687.X
申请日：2016-07-08
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 本发明的要解决的技术问题在于，提供一种功能性片材，其是能够容易地贴合于建筑物的涂装面、或交通工具等的外装面、内装面等的3维形状的功能性片材，所述功能性片材有效地屏蔽紫外线或红外线，并没有不匀、缺损、裂缝的产生，可以长期维持所述紫外线或红外线的屏蔽性。本发明的功能性片材，其至少具有电磁波屏蔽性，其中，在与邻接的层的剥离性不同的第一脱模膜和第二脱模膜之间夹入有粘合层和至少含有电磁波屏蔽层的一层或多层的功能性层。
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公开(公告)号：CN103998230B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201280061539.7
申请日：2012-12-10
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Inventor： 西尾昌二
CPC classification number: H05K5/065 , B32B27/08 , B32B27/16 , B32B27/283 , B32B2255/10 , B32B2255/26 , B32B2307/306 , B32B2307/412 , B32B2307/584 , B32B2307/72 , B32B2307/7242 , B32B2457/20 , C08J7/042 , C08J7/045 , C08J7/06 , C08J2367/02 , C08J2369/00 , C08J2381/06 , C08J2465/00 , C08J2483/06 , C08J2483/08 , C08J2483/16 , Y10T428/24992
Abstract: 一种气体阻隔膜(10)，其具备实施真空紫外光照射处理并层叠于基材(1)上的气体阻隔层(2)和保护层(3)，其中，形成为满足如下的规定：气体阻隔层(2)在其至少一部分中具有SiOxNy的组成，满足0.1≤x/(x+y)≤0.9的条件，同时保护层(3)的膜密度相对于气体阻隔层(2)的膜密度之比为0.2以上且0.75以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107111028A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580053813.X
申请日：2015-10-02
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Inventor： 西尾昌二
CPC classification number: G02F1/0147 , B82Y20/00 , C03C17/009 , C03C2217/445 , C03C2217/475 , G02B5/008 , G02B5/208 , G02B5/22 , G02B5/26 , G02F1/009 , G02F2201/083
Abstract: 本发明的技术问题在于，提供一种光学膜及其制造方法，所述光学膜具有可以根据温度环境对近红外的光线屏蔽率的热变色性进行调节，并且雾度低，即使在经过长时间的使用，也具有优异的耐皲裂性及密合性。该光学膜的特征在于，所述光学功能层具有海岛结构，所述海岛结构含有由所述粘合剂树脂所形成的海区域和由所述含二氧化钒的微粒所形成的岛区域，所述包含含二氧化钒的微粒的一次粒子及二次粒子的全部粒子的数均粒径为200nm以下，所述岛区域间的最接近壁之间的距离的平均值在1～1000nm的范围内，所述最接近壁之间的距离为1100nm以上的所述岛区域的个数相对于全部的所述岛区域的个数为10个数％以下。
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公开(公告)号：CN103998230A
公开(公告)日：2014-08-20
申请号：CN201280061539.7
申请日：2012-12-10
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Inventor： 西尾昌二
CPC classification number: H05K5/065 , B32B27/08 , B32B27/16 , B32B27/283 , B32B2255/10 , B32B2255/26 , B32B2307/306 , B32B2307/412 , B32B2307/584 , B32B2307/72 , B32B2307/7242 , B32B2457/20 , C08J7/042 , C08J7/045 , C08J7/06 , C08J2367/02 , C08J2369/00 , C08J2381/06 , C08J2465/00 , C08J2483/06 , C08J2483/08 , C08J2483/16 , Y10T428/24992
Abstract: 一种气体阻隔膜(10)，其具备实施真空紫外光照射处理并层叠于基材(1)上的气体阻隔层(2)和保护层(3)，其中，形成为满足如下的规定：气体阻隔层(2)在其至少一部分中具有SiOxNy的组成，满足0.1≤x/(x+y)≤0.9的条件，同时保护层(3)的膜密度相对于气体阻隔层(2)的膜密度之比为0.2以上且0.75以下。
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公开(公告)号：CN108290377A
公开(公告)日：2018-07-17
申请号：CN201680067430.2
申请日：2016-11-22
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
CPC classification number: B32B7/02 , B32B9/00 , C23C14/08 , C23C14/10 , C23C14/20 , C23C14/34 , H05B33/10 , H05B33/14
Abstract: 本发明的课题是提供气体阻隔性及光学各向异性得到了改善的气体阻隔性膜。该气体阻隔性膜在基材上具有气体阻隔层，上述气体阻隔层至少在厚度方向上沿厚度方向连续地具有5nm以上的混合区域，该混合区域是含有非过渡金属M1及过渡金属M2的区域，上述过渡金属M2对于上述非过渡金属M1的原子数比的值(M2/M1)在0.02～49的范围内，上述基材在23℃·55％RH的环境下测定光波长590nm处的延迟值Ro的绝对值在0～30nm的范围内。
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公开(公告)号：CN104736335B
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201380054446.6
申请日：2013-10-15
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Inventor： 西尾昌二
CPC classification number: C09D7/1216 , C09D7/61 , C23C14/34 , C23C16/401 , C23C16/455 , C23C16/50 , C23C16/545 , H01L51/5253
Abstract: 本发明的课题在于提供即便在高温高湿的使用环境下也具有充分的气体阻隔性、即便在使膜弯曲的情况下气体阻隔性的降低也被充分抑制、耐裂纹性也优异的气体阻隔膜。本发明的气体阻隔膜的特征在于，在基材的至少一个面具有含有硅、氧和碳的气体阻隔层，满足下述(i)～(iv)的全部要件：(i)硅、氧和碳原子比率在层厚方向的90％以上的区域中，(碳原子比率)＜(硅原子比率)＜(氧原子比率)，(ii)碳分布曲线具有至少2个极值，(iii)碳分布曲线中的碳原子比率的最大值与最小值之差的绝对值为5at％以上，(iv)跟基材侧的气体阻隔层表面最近的氧分布曲线的极大值在该气体阻隔层内的氧分布曲线的极大值中取最大值。
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公开(公告)号：CN104736335A
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：CN201380054446.6
申请日：2013-10-15
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Inventor： 西尾昌二
CPC classification number: C09D7/1216 , C09D7/61 , C23C14/34 , C23C16/401 , C23C16/455 , C23C16/50 , C23C16/545 , H01L51/5253 , B32B9/00 , C23C16/42 , H01L51/50 , H05B33/02 , H05B33/04 , H05B33/10
Abstract: 本发明的课题在于提供即便在高温高湿的使用环境下也具有充分的气体阻隔性、即便在使膜弯曲的情况下气体阻隔性的降低也被充分抑制、耐裂纹性也优异的气体阻隔膜。本发明的气体阻隔膜的特征在于，在基材的至少一个面具有含有硅、氧和碳的气体阻隔层，满足下述(i)～(iv)的全部要件：(i)硅、氧和碳原子比率在层厚方向的90％以上的区域中，(碳原子比率)＜(硅原子比率)＜(氧原子比率)，(ii)碳分布曲线具有至少2个极值，(iii)碳分布曲线中的碳原子比率的最大值与最小值之差的绝对值为5at％以上，(iv)跟基材侧的气体阻隔层表面最近的氧分布曲线的极大值在该气体阻隔层内的氧分布曲线的极大值中取最大值。
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