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公开(公告)号:CN100556799C
公开(公告)日:2009-11-04
申请号:CN03803837.4
申请日:2003-02-13
Applicant: 株式会社东京大学TLO , 东丽株式会社
IPC: C01B31/02
CPC classification number: B82Y40/00 , B82Y30/00 , C01B32/162 , C01B2202/02 , Y10S977/843 , Y10T428/2918
Abstract: 在加热温度下使由含氧化合物构成的碳源气氛与催化剂接触,生成单层碳纳米管。由含氧化合物构成的碳源优选使用醇类和/或醚类,催化剂优选使用金属,加热温度优选500-1500℃。可生成不混入单层碳纳米管以外的杂质、缺陷少、品质优的单层碳纳米管。
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公开(公告)号:CN1633393A
公开(公告)日:2005-06-29
申请号:CN03803837.4
申请日:2003-02-13
Applicant: 株式会社东京大学TLO , 东丽株式会社
IPC: C01B31/02
CPC classification number: B82Y40/00 , B82Y30/00 , C01B32/162 , C01B2202/02 , Y10S977/843 , Y10T428/2918
Abstract: 在加热温度下使由含氧化合物构成的碳源气氛与催化剂接触,生成单层碳纳米管。由含氧化合物构成的碳源优选使用醇类和/或醚类,催化剂优选使用金属,加热温度优选500-1500℃。可生成不混入单层碳纳米管以外的杂质、缺陷少、品质优的单层碳纳米管。
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