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公开(公告)号：CN102398958A
公开(公告)日：2012-04-04
申请号：CN201110272017.9
申请日：2011-09-14
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C02F1/32
CPC classification number: C02F1/325 , C02F2201/3227 , C02F2201/324 , C02F2303/04
Abstract: 本发明提供紫外线水处理装置。具备紫外线照射单元、将被处理水导入到紫外线照射单元的水入口管和使照射了紫外线的被处理水从紫外线照射单元流出的水出口管。紫外线照射单元具备具有相互对置设置的第1及第2开口的周围壁的中空护罩。在护罩内设有紫外线照射设备，分别具备紫外线灯和保护套筒且相互平行地设置1个或1个以上，对通过中空护罩而流动的被处理水照射紫外线。在中空护罩内设有保护套筒清扫设备，具备清扫各保护套筒表面的清扫工具和驱动机构。水入口管与第1开口直接流体连通，使被处理水流入中空护罩。水出口管与第2开口直接流体连通，使照射了紫外线的被处理水从中空护罩流出。入口管及出口管的中心轴分别与中空护罩的中心轴交叉。
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公开(公告)号：CN101244852A
公开(公告)日：2008-08-20
申请号：CN200810087971.9
申请日：2006-03-29
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 一种用紫外线辐射进行水净化处理的水处理系统，该系统包括：在水净化处理过程的前期过程中发射紫外光的前期紫外线辐射装置(5)，在后期过程中发射紫外光的后期紫外线辐射装置(10)，以及控制这些紫外线辐射装置的控制器(14)。
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公开(公告)号：CN101164914A
公开(公告)日：2008-04-23
申请号：CN200710152915.4
申请日：2005-04-22
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 供能够将臭氧注入量最优化，进行最佳的水处理的水处理控制系统。该水处理系统具有导入、装载作为处理对象的被处理水，排出已处理的处理水的处理槽；将臭氧气体注入前述处理槽的注入装置；测定前述被处理水的荧光强度的荧光强度测定手段；使用由前述荧光强度测定手段测得的荧光强度算出荧光强度残存率，根据该荧光强度残存率和前述臭氧气体的臭氧消耗效率的关系，算出与设定目标的荧光强度残存率相对应的目标臭氧消耗效率的运算手段；按照由前述运算手段算出的前述目标的臭氧消耗效率，控制由前述注入装置注入臭氧气体时的臭氧注入量的控制手段。
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公开(公告)号：CN101069816A
公开(公告)日：2007-11-14
申请号：CN200710088731.6
申请日：2007-03-20
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 本发明的目的在于实现膜组件的节省空间，同时减小原水的过滤阻力，从而使透过流束大于在通常水道用途中使用的精密滤膜或超滤膜的透过流束。本发明使用在容器(2)中装填使用了各向异性多孔质材料的膜(1)而成为一体的膜组件，装入原水进行过滤。
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公开(公告)号：CN111615498A
公开(公告)日：2020-09-01
申请号：CN201980008845.6
申请日：2019-04-12
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝基础设施系统株式会社
Abstract: 本发明的实施方式的水处理系统是将臭氧及过氧化氢添加在被处理水中，在臭氧反应槽中进行所述被处理水中的处理对象物质的促进氧化处理的促进氧化水处理系统，具备：在向臭氧反应槽导入被处理水之前或导入时供给过氧化氢的第1过氧化氢供给装置；生成含有臭氧的臭氧化气体并供给臭氧反应槽的臭氧生成装置；在臭氧反应槽中向被处理水的流路中供给过氧化氢的第2过氧化氢供给装置；对与臭氧反应槽中的促进氧化处理中或促进氧化处理后的所述被处理水对应的处理指标进行检测的测定装置；和基于处理指标来判别可否通过第2过氧化氢供给装置供给过氧化氢及设定供给量，控制第2过氧化氢供给装置的控制装置。所以，在采用OH自由基的促进氧化水处理中，能够维持高的处理效率，可无过多或不足地添加臭氧及过氧化氢。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105903498A
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201610079143.5
申请日：2016-02-04
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G21F9/28 , A62D3/38 , A62D2101/20 , A62D2101/24 , B01J49/53 , G21F9/06 , C02F1/42
Abstract: 本发明涉及使用过的离子交换树脂的处理方法及使用过的离子交换树脂的处理装置。实施方式的使用过的离子交换树脂的处理方法具备以下工序：脱离工序，其使在离子交换基团上吸附了放射性核素及重金属元素中的至少任一者的使用过的离子交换树脂与包含铁化合物、过氧化氢及臭氧的反应溶液接触；分离工序，其使上述脱离工序中与上述使用过的离子交换树脂接触的上述反应溶液中的至少一部分从上述使用过的离子交换树脂中分离；和有机物分解工序，其将上述分离工序中从上述使用过的离子交换树脂中分离出的上述反应溶液中包含的有机物成分分解。
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公开(公告)号：CN101244852B
公开(公告)日：2011-11-09
申请号：CN200810087971.9
申请日：2006-03-29
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 一种用紫外线辐射进行水净化处理的水处理系统，该系统包括：在水净化处理过程的前期过程中发射紫外光的前期紫外线辐射装置(5)，在后期过程中发射紫外光的后期紫外线辐射装置(10)，以及控制这些紫外线辐射装置的控制器(14)。
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公开(公告)号：CN101300195B
公开(公告)日：2011-05-18
申请号：CN200680040977.X
申请日：2006-11-02
Applicant: 株式会社东芝
IPC: C02F1/32
CPC classification number: C02F1/32 , C02F1/325 , C02F2201/3227 , C02F2201/324 , C02F2201/328
Abstract: 紫外线照射水处理装置(10)由具有圆筒形侧面部(21)的容器(20)构成，在容器(20)内设置有与侧面部(21)的中心轴(S)平行的多个棒状的紫外线灯(30A)～(30F)。另外，沿着侧面部(21)的内周的切线方向的位置的侧面部(21)的外壁上设有用于使被处理水(W1)流入的被处理水入口管(22)。
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公开(公告)号：CN100531870C
公开(公告)日：2009-08-26
申请号：CN200710088731.6
申请日：2007-03-20
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 本发明的目的在于实现膜组件的节省空间，同时减小原水的过滤阻力，从而使透过流束大于在通常水道用途中使用的精密滤膜或超滤膜的透过流束。本发明使用在容器(2)中装填使用了各向异性多孔质材料的膜(1)而成为一体的膜组件，装入原水进行过滤。
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公开(公告)号：CN101497487A
公开(公告)日：2009-08-05
申请号：CN200810009243.6
申请日：2008-01-31
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 一种水处理系统，其同时使用次氯酸钠的注入和紫外线的照射来进行杀菌和杀藻处理，在该水处理系统中具有控制装置(13a、13b)，该控制装置针对后段工序所设有的池(8)的紫外线的照射量减少的情况，使对中段工序或前段工序所设有的池(3、5)紫外线的照射量增大。
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