公开(公告)号：CN1204587C

公开(公告)日：2005-06-01

申请号：CN01804449.2

申请日：2001-02-02

申请人： 株式会社东芝 ,  株式会社尼卡技术 ,  富士色素株式会社

发明人： 伊藤武夫 ,  田中肇 ,  中泽知子 ,  中山太一郎 ,  篠原孝公 ,  中山洋一郎 ,  坂井和夫

IPC分类号： H01J9/22 ,  H01J29/28 ,  H01J31/12

CPC分类号： H01J31/123 ,  H01J29/28 ,  H01J2329/28 ,  Y10T428/1476 ,  Y10T428/253 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/31681 ,  Y10T428/31692

摘要： 本发明公开一种转印膜，它具有基膜(11)、在该基膜上依次层叠的脱膜剂层(12)、保护膜(13)以及金属膜(14)。所述保护膜(13)含有磷酸酯、脂族一元酸酯、脂族二元酸酯、二元醇酯等柔软剂。本发明还公开用该转印膜形成的金属底层。此外，由于转印膜的转印层的表面电阻率高达102～108Ω/□，因此，可提高形成的金属底层的表面电阻率，抑制放电。

公开(公告)号：CN1397082A

公开(公告)日：2003-02-12

申请号：CN01804449.2

申请日：2001-02-02

申请人： 株式会社东芝 ,  株式会社尼卡技术 ,  富士色素株式会社

发明人： 伊藤武夫 ,  田中肇 ,  中泽知子 ,  中山太一郎 ,  篠原孝公 ,  中山洋一郎 ,  坂井和夫

IPC分类号： H01J9/22 ,  H01J29/28 ,  H01J31/12

CPC分类号： H01J31/123 ,  H01J29/28 ,  H01J2329/28 ,  Y10T428/1476 ,  Y10T428/253 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/31681 ,  Y10T428/31692

摘要： 本发明公开一种转印膜，它具有基膜(11)、在该基膜上依次层叠的脱膜剂层(12)、保护膜(13)以及金属膜(14)。所述保护膜(13)含有磷酸酯、脂族一元酸酯、脂族二元酸酯、二元醇酯等柔软剂。本发明还公开用该转印膜形成的金属底层。此外，由于转印膜的转印层的表面电阻率高达102～108Ω/口，因此，可提高形成的金属底层的表面电阻率，抑制放电。