投影光学设备和曝光装置

    公开(公告)号:CN101052916B

    公开(公告)日:2010-05-12

    申请号:CN200580029077.0

    申请日:2005-07-18

    IPC分类号: G03B27/32 G03B27/42 G03B27/52

    摘要: 一种投影光学设备,其包括投影图案的图像的投影光学系统(PL);具有柔性结构(36A、36B和36C)以支撑该投影光学系统的支撑设备;和具有致动器以定位该投影光学系统的定位设备。投影光学设备能够包括框架(34),柔性结构的一端附连到该框架。该投影光学系统可通过该支撑设备从该框架悬挂,或者其可由该支撑设备从下方支撑。投影光学设备还能够包括液体供应设备(48),其利用重力将温度受控的液体供应至该投影光学系统的侧表面,从而使得该温度受控的液体沿着该投影光学系统的侧表面流动。

    投影光学设备和曝光装置

    公开(公告)号:CN101052916A

    公开(公告)日:2007-10-10

    申请号:CN200580029077.0

    申请日:2005-07-18

    IPC分类号: G03B27/32 G03B27/42 G03B27/52

    摘要: 一种投影光学设备,其包括投影图案的图像的投影光学系统(PL);具有柔性结构(36A、36B和36C)以支撑该投影光学系统的支撑设备;和具有致动器以定位该投影光学系统的定位设备。投影光学设备能够包括框架(34),柔性结构的一端附连到该框架。该投影光学系统可通过该支撑设备从该框架悬挂,或者其可由该支撑设备从下方支撑。投影光学设备还能够包括液体供应设备(48),其利用重力将温度受控的液体供应至该投影光学系统的侧表面,从而使得该温度受控的液体沿着该投影光学系统的侧表面流动。