基板处理装置的维护方法以及安全装置

    公开(公告)号:CN102741978B

    公开(公告)日:2015-08-05

    申请号:CN201080056521.9

    申请日:2010-12-16

    IPC分类号: H01L21/027 G03F7/20

    CPC分类号: G03F7/708 G03F7/70975

    摘要: 一种基板处理装置的维护方法以及安全装置。基板处理装置中,驱动区(DA1)被室本体部(51)覆盖,进行用以处理基板的规定动作的驱动部是配置于上述驱动区(DA1),利用间隔部(52)而区分上述驱动区、与上述驱动区的周围区(SA1)。基板处理装置的维护方法包括:第1步骤,在设置于室本体部(51)的堵住第1开口的第1门(DR1)被打开之前,使X射线照射装置成为无法照射X射线的状态;第2步骤,在第1门(DR1)被打开之后、设置于间隔部(52)的堵住第2开口的第2门(DR2)被打开之前,使驱动部成为无法进行规定动作的状态;以及维护步骤,进行成为无法进行规定动作的状态的驱动部及处理部的至少一方的维护。因此,驱动部的驱动状态的观察等的点检,可以在室的内部安全地进行。

    基板处理装置的维护方法以及安全装置

    公开(公告)号:CN102741978A

    公开(公告)日:2012-10-17

    申请号:CN201080056521.9

    申请日:2010-12-16

    IPC分类号: H01L21/027 G03F7/20

    CPC分类号: G03F7/708 G03F7/70975

    摘要: 基板处理装置中,驱动区(DA1)被室本体部(51)覆盖,进行用以处理基板的规定动作的驱动部是配置于上述驱动区(DA1),利用间隔部(52)而区分上述驱动区、与上述驱动区的周围的周围区(SA1)。基板处理装置的维护方法包括:第1步骤,在设置于室本体部(51)的堵住第1开口的第1门(DR1)被打开之前,使X射线照射装置成为无法照射X射线的状态;第2步骤,在第1门(DR1)被打开之后、设置于间隔部(52)的堵住第2开口的第2门(DR2)被打开之前,使驱动部成为无法进行规定动作的状态;以及维护步骤,进行成为无法进行规定动作的状态的驱动部及处理部的至少一方的维护。因此,驱动部的驱动状态的观察等的点检,可以在室的内部安全地进行。

    基板处理装置及其控制方法、控制电路与维护方法

    公开(公告)号:CN105185697B

    公开(公告)日:2019-02-15

    申请号:CN201510362489.1

    申请日:2010-12-16

    IPC分类号: H01L21/027 G03F7/20

    摘要: 本发明是有关于一种基板处理装置及其控制方法、控制电路与维护方法。基板处理装置包括:进行用以处理基板的规定动作的驱动部;将配置着驱动部的驱动区、与驱动区的周围的周围区加以区分的间隔部;覆盖驱动区及周围区的室本体部;设置在驱动区及周围区的至少一方的电离器;及对基板进行规定处理的处理部。基板处理装置的控制方法是:对应于设置在上述室本体部的第1门的第1开关、与对应于设置在上述间隔部的第2门的第2开关为分别连接,使上述电离器进行动作。

    基板处理装置及其控制方法、控制电路与维护方法

    公开(公告)号:CN105185697A

    公开(公告)日:2015-12-23

    申请号:CN201510362489.1

    申请日:2010-12-16

    IPC分类号: H01L21/027 G03F7/20

    摘要: 本发明是有关于一种基板处理装置及其控制方法、控制电路与维护方法。基板处理装置包括:进行用以处理基板的规定动作的驱动部;将配置着驱动部的驱动区、与驱动区的周围的周围区加以区分的间隔部;覆盖驱动区及周围区的室本体部;设置在驱动区及周围区的至少一方的电离器;及对基板进行规定处理的处理部。基板处理装置的控制方法是:对应于设置在上述室本体部的第1门的第1开关、与对应于设置在上述间隔部的第2门的第2开关为分别连接,使上述电离器进行动作。