极紫外光掩膜片保护装置及方法

    公开(公告)号:CN1989452B

    公开(公告)日:2010-05-26

    申请号:CN200580024713.0

    申请日:2005-07-21

    发明人: 麦可·索盖德

    摘要: 本发明揭示使用一较冷的气流在一掩膜片(916)与一掩膜片遮敝物(920)之间建立一温度梯度以便减少该掩膜片上之粒子污染的方法与设备。根据本发明的其中一项观点,一用以减少一物体(928)之表面上粒子污染的设备包含:一平板(920)以及一气体供应器(954)。该平板系被设置在该物体的附近,使具有第二温度之该平板与具有第一温度之该物体实质上分隔一空间。该气体供应器供应一气流给该空间。该气体具有第三温度,该第三温度低于该第一温度与该第二温度两者。该气体会协同该平板与该物体来创造一温度梯度,从而创造一用来搬运该空间中之粒子使其远离该物体的热泳作用力。

    极紫外光光罩保护
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1989452A

    公开(公告)日:2007-06-27

    申请号:CN200580024713.0

    申请日:2005-07-21

    发明人: 麦可·索盖德

    摘要: 本发明揭示使用一较冷的气流在一光罩(916)与一光罩遮敝物(920)之间建立一温度梯度以便减少该光罩上之粒子污染的方法与设备。根据本发明的其中一项观点,一用以减少一物体(928)之表面上粒子污染的设备包含:一平板(920)以及一气体供应器(954)。该平板系被设置在该物体的附近,俾使具有第二温度之该平板与具有第一温度之该物体实质上会分隔一空间。该气体供应器会供应一气流给该空间。该气体具有第三温度,该第三温度低于该第一温度与该第二温度两者。该气体会协同该平板与该物体来创造一温度梯度,从而会创造一用来搬运该空间中之粒子使其远离该物体的热泳作用力。