公开(公告)号：CN101310038B

公开(公告)日：2011-05-04

申请号：CN200680042613.5

申请日：2006-11-15

Applicant: 株式会社日本触媒

Inventor： 熊田辉彦 ,  信时英治 ,  保田直纪 ,  山本哲也 ,  中谷泰隆 ,  神山卓也

IPC: C23C16/38 ,  H01L21/314 ,  H01L21/768 ,  H01L23/522

CPC classification number: C23C16/342 ,  C07F5/02 ,  C23C16/30 ,  H01L21/314 ,  H01L21/318

Abstract: 本发明提供一种包含由化学式1表示的环硼氮烷化合物的化学气相沉积成膜用组合物，其满足以下至少一个条件：所述组合物中各种卤素原子的含量为100ppb以下的条件，或所述组合物中各种金属元素的含量为100ppb以下的条件。在化学式1中，R1可以相同或不同，其为氢原子、烷基、烯基或炔基，其至少之一为氢原子；R2可以相同或不同，其为氢原子、烷基、烯基或炔基，其至少之一为烷基、烯基或炔基。通过使用该组合物，可改进由含环硼氮烷环的化合物生产的薄膜的物理性质如低介电常数性和机械强度。[化学式1]

公开(公告)号：CN101310038A

公开(公告)日：2008-11-19

申请号：CN200680042613.5

申请日：2006-11-15

Applicant: 株式会社日本触媒

Inventor： 熊田辉彦 ,  信时英治 ,  保田直纪 ,  山本哲也 ,  中谷泰隆 ,  神山卓也

IPC: C23C16/38 ,  H01L21/314 ,  H01L21/768 ,  H01L23/522

CPC classification number: C23C16/342 ,  C07F5/02 ,  C23C16/30 ,  H01L21/314 ,  H01L21/318

Abstract: 本发明提供一种包含由化学式1表示的环硼氮烷化合物的化学气相沉积成膜用组合物，其满足以下至少一个条件：所述组合物中各种卤素原子的含量为100ppb以下的条件，或所述组合物中各种金属元素的含量为100ppb以下的条件。在化学式1中，R1可以相同或不同，其为氢原子、烷基、烯基或炔基，其至少之一为氢原子；R2可以相同或不同，其为氢原子、烷基、烯基或炔基，其至少之一为烷基、烯基或炔基。通过使用该组合物，可改进由含环硼氮烷环的化合物生产的薄膜的物理性质如低介电常数性和机械强度。