公开(公告)号：CN1005110B

公开(公告)日：1989-09-06

申请号：CN85101472

申请日：1985-04-01

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 冈村久宣 ,  秋山浩 ,  鸭志田陆男 ,  宫崎邦夫

IPC: C04B37/00

Abstract: 在陶瓷构件上形成一层碳膜，或在该碳膜上形成一层金属膜，然后将该陶瓷构件同另外陶瓷构件或金属构件相粘结从而形成一件复合材料制品。该复合材料制品具有高的粘结强度并且几乎不会在粘结处断裂。

公开(公告)号：CN85101472A

公开(公告)日：1987-01-10

申请号：CN85101472

申请日：1985-04-01

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 冈村久宣 ,  秋山浩 ,  鸭志田陆男 ,  宫崎邦夫

IPC: C04B37/00

Abstract: 在陶瓷构件上形成一层碳膜，或在该碳膜上形成一层金属膜，然后将该陶瓷构件同另外陶瓷构件或金属构件相粘结从而形成一件复合材料制品。该复合材料制品具有高的粘结强度并且几乎不会在粘结处断裂。

公开(公告)号：CN104857638A

公开(公告)日：2015-08-26

申请号：CN201510061778.8

申请日：2015-02-05

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 西村荒雄 ,  秋山浩 ,  品川亮介 ,  藤田毅

IPC: A61N5/10

CPC classification number: A61N5/1075 ,  A61N5/1043 ,  A61N5/1048 ,  A61N5/1067 ,  A61N2005/1074 ,  A61N2005/1087

Abstract: 本发明提供一种射束位置监视装置以及带电粒子束照射系统，降低离子束照射的计划外停止来增加每日可治疗的人数的。通过扫描控制装置控制照射装置的扫描电磁铁，向患部的某层内的点的目标位置Pi,j照射从同步加速器射出的离子束。求出目标位置Pi,j与实际的照射位置Pai,j的偏差Dj(S6B)。使用偏差Dj来求出实际的照射位置Pai,j的系统误差Esi,j以及随机误差Eri,j(S6C)。判定系统误差Esi,j是否在系统误差Esi,j的第一容许范围内(S6D)。判定随机误差Eri,j是否在随机误差Eri,j的第二容许范围内(S6D)。当系统误差(Esi,j)以及随机误差Eri,j脱离了容许范围时，停止离子束向患部的照射。

公开(公告)号：CN104857638B

公开(公告)日：2018-06-26

申请号：CN201510061778.8

申请日：2015-02-05

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 西村荒雄 ,  秋山浩 ,  品川亮介 ,  藤田毅

IPC: A61N5/10

CPC classification number: A61N5/1075 ,  A61N5/1043 ,  A61N5/1048 ,  A61N5/1067 ,  A61N2005/1074 ,  A61N2005/1087

Abstract: 本发明提供一种射束位置监视装置以及带电粒子束照射系统，降低离子束照射的计划外停止来增加每日可治疗的人数的。通过扫描控制装置控制照射装置的扫描电磁铁，向患部的某层内的点的目标位置Pi,j照射从同步加速器射出的离子束。求出目标位置Pi,j与实际的照射位置Pai,j的偏差Dj(S6B)。使用偏差Dj来求出实际的照射位置Pai,j的系统误差Esi,j以及随机误差Eri,j(S6C)。判定系统误差Esi,j是否在系统误差Esi,j的第一容许范围内(S6D)。判定随机误差Eri,j是否在随机误差Eri,j的第二容许范围内(S6D)。当系统误差(Esi,j)以及随机误差Eri,j脱离了容许范围时，停止离子束向患部的照射。

公开(公告)号：CN102743821A

公开(公告)日：2012-10-24

申请号：CN201210113609.0

申请日：2012-04-17

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 藤高伸一郎 ,  藤井佑介 ,  藤本林太郎 ,  平本和夫 ,  秋山浩

IPC: A61N5/10

CPC classification number: A61N5/1043 ,  A61N5/1036 ,  A61N5/1045 ,  A61N2005/1087

Abstract: 本发明提供粒子线治疗计划装置及粒子线治疗装置。在均匀扫描或层叠原体扫描中，能有效地利用带电粒子束并缩短治疗时间。在均匀扫描中，治疗计划装置计算一样地照射准直器开口区域的最佳的带电粒子束扫描路径。在层叠原体照射中，治疗计划装置对每个层计算一样地照射层分割了的患部各层的多叶式瞄准仪开口区域的最佳的带电粒子束扫描路径，或者，治疗计划装置计算覆盖各层的多叶式瞄准仪开口区域的最小的照射区域尺寸，选择与存储在粒子线治疗控制装置的存储器上的照射区域尺寸对应的带电粒子束扫描路径。通过与准直器开口区域一致地使均匀扫描或在层叠原体照射的各层的横向的带电粒子束扫描路径适当地变化，解决课题。