公开(公告)号：CN119895303A

公开(公告)日：2025-04-25

申请号：CN202480004045.8

申请日：2024-02-08

Applicant: 株式会社村田制作所

Inventor： 长岛和辉 ,  清水康弘 ,  永田真己 ,  三浦优二 ,  富村达也 ,  森直哉 ,  千秋裕

IPC: G02B6/26 ,  G02B6/42

Abstract: 光耦合器（1）具备：光纤固定部（4）；反射部（3），将光（L）的前进方向从第1方向（DIR1）变更为与第1方向正交的第2方向（DIR2）；和保持部（2），分别对光纤固定部（4）以及反射部（3）进行保持。保持部（2）包含：第1侧壁部（21）；第2侧壁部（22）；和第3侧壁部（23），在第2方向上观察，夹着光纤固定部（4）以及反射部（3）位于第2侧壁部（22）的沿着第3方向（DIR3）的相反侧。光纤固定部（4）以及反射部（3）各自与第2侧壁部（22）以及第3侧壁部（23）分别相连。第1侧壁部（21）的沿着第1方向的宽度（D1）、第2侧壁部（22）的沿着第3方向的宽度（D2）、以及第3侧壁部（23）的沿着第3方向的宽度（D3）的至少任一者越朝向第2方向，越连续地变大。

公开(公告)号：CN119968589A

公开(公告)日：2025-05-09

申请号：CN202480004171.3

申请日：2024-02-08

Applicant: 株式会社村田制作所

Inventor： 永田真己 ,  清水康弘 ,  三浦优二 ,  长岛和辉 ,  富村达也 ,  森直哉 ,  千秋裕

IPC: G02B6/42 ,  G02B3/00 ,  G02B6/26 ,  H10F55/20

Abstract: 光耦合器的制造方法包括：准备工序，准备具有在第1方向（DIR1）上排列的第1主面（SU11）以及第2主面（SU12）的透光性基板（11）；第1涂敷工序，在第1主面（SU11）涂敷包含第1填料（P1）的第1感光性玻璃膏（12）；掩模工序，在第2主面（SU12）配置以二值模式形成的灰度掩模（10）；曝光工序，向第2主面（SU12）照射紫外线，使第1感光性玻璃膏（12）曝光；显影工序，从第2主面（SU12）取下灰度掩模（10），使第1感光性玻璃膏（12）显影；以及固化工序，从显影后的第1感光性玻璃膏（12）取下透光性基板（11），使第1感光性玻璃膏（12）固化。第1填料（P1）的最长长度（r1）比紫外线的波长长。

公开(公告)号：CN118575110A

公开(公告)日：2024-08-30

申请号：CN202280089418.7

申请日：2022-10-28

Applicant: 株式会社村田制作所

Inventor： 三浦优二 ,  清水康弘 ,  永田真己 ,  森直哉 ,  富村达也 ,  岛田一步

IPC: G02B6/32 ,  G02B6/26 ,  G02B6/34 ,  G02B6/42

Abstract: 本发明涉及的光学构件具备：第1光学元件(12、14)，包含介质(M1、M2)和设置在介质内且具有非球形形状的多个填料(P1、P2)，使在介质内通过的光的行进方向变化；以及保持部(16)，保持光纤，使得从第1光学元件出射的光入射到光纤(100)的端面。