公开(公告)号：CN104736739A

公开(公告)日：2015-06-24

申请号：CN201380037478.5

申请日：2013-05-14

Applicant: 学校法人关东学院 ,  株式会社杰希优

Inventor： 克里斯托弗·科多尼尔 ,  本间英夫

IPC: C23C18/44 ,  C25D3/48

CPC classification number: C25D3/48 ,  C23C18/31 ,  C23C18/44

Abstract: 无氰镀金浴(1)含有金离子与以下的化学式(化1)所表示的化合物。

公开(公告)号：CN104736739B

公开(公告)日：2018-04-06

申请号：CN201380037478.5

申请日：2013-05-14

Applicant: 学校法人关东学院 ,  株式会社杰希优

Inventor： 克里斯托弗·科多尼尔 ,  本间英夫

IPC: C23C18/44 ,  C25D3/48

CPC classification number: C25D3/48 ,  C23C18/31 ,  C23C18/44

Abstract: 无氰镀金浴(1)含有金离子与以下的化学式(化1)所表示的化合物。

公开(公告)号：CN103205259A

公开(公告)日：2013-07-17

申请号：CN201310076691.9

申请日：2013-03-11

Applicant: 株式会社杰希优

Inventor： 克里斯托弗·科多尼尔 ,  锅岛三弘 ,  熊谷真吾 ,  高桥直贵

IPC: C09K13/02 ,  C23F1/10 ,  C23F1/32 ,  C03C15/00

CPC classification number: C09K13/02 ,  C03C15/00 ,  C03C17/09 ,  C03C2217/258 ,  C03C2217/259 ,  C03C2218/154 ,  C03C2218/33 ,  C23F1/36 ,  C23F1/38 ,  C23F1/40 ,  C23F1/44

Abstract: 本发明的目的在于，提供一种选择性蚀刻方法，其为以实用的速度、且与基底基材相比优先选择性蚀刻钛以及其它金属的方法。该方法为一种蚀刻方法，其特征在于，将设于选自玻璃、硅、铜和镍的基底基材上的选自钛、铌、钨、钼、钌、铑、砷、铝和镓中的金属、前述金属的氧化物、前述金属的氮化物、氮化硅、氮化铪、氮化钽或这些的合金的层与本质上含有1种以上络合剂且为碱性的蚀刻液接触，选择性蚀刻选自钛、铌、钨、钼、钌、铑、砷、铝和镓中的金属、前述金属的氧化物、前述金属的氮化物、氮化硅、氮化铪、氮化钽或这些的合金，前述络合剂选自下式（I）和（II）所示的化合物。