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公开(公告)号:CN106716260A
公开(公告)日:2017-05-24
申请号:CN201580049722.9
申请日:2015-08-31
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 一种显影装置,其包括:包含调色剂和载体的显影剂;和显影剂承载体,其配置成使其表面承载所述显影剂和进行环形运动,并且配置成通过在面对潜像承载体的显影区域中向潜像承载体表面上的潜像供应显影剂中的调色剂而使潜像显影,其中载体包含细粒子,载体的体积电阻率R(=10X)(Ω·cm)中的X值为11.5-16.0,显影剂承载体包括:包含多个磁极的磁场产生单元;和具有圆筒形状的显影套筒,其环绕磁场产生单元并且配置成通过所述磁场产生单元的磁力将显影剂承载在圆筒形状的外圆周表面上和通过相对于显影装置主体的旋转进行表面运动,并且显影装置包括配置成向显影套筒施加包含AC分量的电压的显影套筒电压施加单元。
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公开(公告)号:CN101923312B
公开(公告)日:2012-07-11
申请号:CN201010202821.5
申请日:2010-06-10
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G03G21/0011 , G03G21/0094
Abstract: 本发明涉及清洁装置,处理卡盒,图像形成装置以及清洁方法。清洁装置包括清洁刮板以及润滑剂涂布装置。所述清洁刮板清洁回转的被清洁体表面,所述润滑剂涂布装置设有固形润滑剂及涂布辊,所述固形润滑剂用于降低上述被清洁体表面的摩擦系数,所述涂布辊在正回转时及逆回转时滑擦刮取该固形润滑剂,涂布在上述被清洁体表面上。通过上述涂布辊向上述被清洁体供给润滑剂的供给量在涂布辊正回转时和逆回转时不同。设有润滑剂涂布模式,实行该模式时的逆回转方向,润滑剂供给量变多。提供在润滑剂涂布模式中能缩短空转引起的待机时间、提高使用方便性、实现零部件长寿命的清洁装置,处理卡盒,图像形成装置以及清洁方法。
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公开(公告)号:CN101713957A
公开(公告)日:2010-05-26
申请号:CN200910178908.0
申请日:2009-09-28
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G03G21/12 , G03G2215/0888
Abstract: 本发明涉及废调色剂回收容器和清洁单元及图像形成设备。其提高废调色剂的回收容器的回收效率,即使是相同容量的容器,也能够更多地收容废调色剂。采用的构成是一种对没有被用于图像形成处理的废调色剂进行回收的回收容器,其包括将回收后的废调色剂在回收容器内进行搬送的搬送装置(31),和对回收容器内的废调色剂的量进行检测的检测装置(32),所述搬送装置的构成是,对于从用于废调色剂回收的回收口送入到容器内的废调色剂,从对应于所述回收口的部位开始,能够向互为相反的两个方向同时搬送。
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公开(公告)号:CN100394314C
公开(公告)日:2008-06-11
申请号:CN200410059821.9
申请日:2004-06-22
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G03G21/1817 , G03G21/08
Abstract: 本发明涉及复印机,传真机,打印机等图像形成装置以及处理卡盒。图像形成装置100设有潜像载置体1,充电装置3,潜像形成装置4,显影装置5,转印装置6,清洁装置7,用清洁刮板7a除去残留在潜像载置体1上的色调剂。图像形成装置使用色调剂的圆度为0.94以上,且设有发光装置20,用于对潜像载置体消电,沿着潜像载置体的回转方向,该发光装置被配置在清洁装置上游侧。能使用用于实现高质量图像的圆形色调剂。以简易的刮板方式很容易地除去潜像载置体上的转印残留色调剂。
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公开(公告)号:CN1287237C
公开(公告)日:2006-11-29
申请号:CN03158767.4
申请日:2003-09-24
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G03G21/1814 , G03G21/0017 , G03G21/0076 , G03G2221/001 , G03G2221/183
Abstract: 本发明提供一种环境条件变化引起的清洗性能变动少的清洗装置,还提供一种与感光体的摩擦系数低,采用清洗刮刀的清洗性能优良的清洗装置。在与旋转的感光体1等被清扫体接触,且具有对其表面进行清洗的清洗刮刀8a的清洗装置8中,清洗刮刀8a在赋予10Hz的正弦波振动时的损失正切(tanδ)的峰温度处于2~-30℃的范围内,另外,该清洗装置8,其与感光体1等被清扫体表面的静摩擦系数低。
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公开(公告)号:CN1287229C
公开(公告)日:2006-11-29
申请号:CN02157103.1
申请日:2002-12-12
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 一种图像形成用调色剂、二组分图像形成用显影剂及图像形成装置及图像形成工艺单元。一种图像形成方法,采用显影辊,将刷子状显影剂和潜影担体表面移动方向同方向并且比该潜影担体表面更高速地移动并接触,使该潜影担体上的潜影显影,显影辊具有非磁性显影剂担体和磁场发生装置,磁场发生装置在该显影剂担体上产生使显影剂分散的磁场,显影剂采用二组分显影剂,显影剂担体表面外侧的法线方向磁通密度的衰减率为50%以上,二组分显影剂至少含有磁性调色剂(A)和磁性载体(B);该磁性调色剂(A)至少含有由硅油处理过的无机微粒子,该硅油的游离率为10~70%,调色剂的磁化(1)在5K奥斯特磁场中的磁化为10~25emu/g,(2)在1K奥斯特磁场中的磁化为7~20emu/g。
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公开(公告)号:CN1425959A
公开(公告)日:2003-06-25
申请号:CN02157103.1
申请日:2002-12-12
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 一种图像形成用调色剂、二组分图像形成用显影剂及图像形成装置及图像形成工艺单元。一种图像形成方法,采用显影辊,将刷子状显影剂和潜影担体表面移动方向同方向并且比该潜影担体表面更高速地移动并接触,使该潜影担体上的潜影显影,显影辊具有非磁性显影剂担体和磁场发生装置,磁场发生装置在该显影剂担体上产生使显影剂分散的磁场,显影剂采用二组分显影剂,显影剂担体表面外侧的法线方向磁通密度的衰减率为50%以上,二组分显影剂至少含有磁性调色剂(A)和磁性载体(B);该磁性调色剂(A)至少含有由硅油处理过的无机微粒子,该硅油的游离率为10~70%,调色剂的磁化(1)在5K奥斯特磁场中的磁化为10~25emu/g,(2)在1K奥斯特磁场中的磁化为7~20emu/g。
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公开(公告)号:CN105093879A
公开(公告)日:2015-11-25
申请号:CN201510254967.7
申请日:2015-05-19
Applicant: 株式会社理光
IPC: G03G15/08
CPC classification number: G03G21/1676 , G03G15/065 , G03G15/0815 , G03G15/095 , G03G15/0898
Abstract: 本发明提供能够在抑制显影区域的下游侧中的显影剂的飞散的同时来获得图像浓度的稳定化的显影装置及其图像形成装置和处理卡盒。在包括显影辊(45)、从开口部(51)来露出显影辊的壳体本体部(121)及间距形成构件(112)和显影偏压电源(141)的显影装置(40)中,相对于显影区域,显影辊的表而移动方向下游侧的显影辊和显影壳体接近的壳体间距区域被设定为使得载置在显影辊上的显影剂与显影壳体的对向面接触,并且,显影壳体中的间距形成构件由导电性材料形成,在壳体间距区域处,在显影辊的表面上的显影剂所接触部分的间距形成构件的对向面上设有绝缘层(123)。
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公开(公告)号:CN101713957B
公开(公告)日:2012-11-21
申请号:CN200910178908.0
申请日:2009-09-28
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G03G21/12 , G03G2215/0888
Abstract: 本发明涉及废调色剂回收容器和清洁单元及图像形成设备。其提高废调色剂的回收容器的回收效率,即使是相同容量的容器,也能够更多地收容废调色剂。采用的构成是一种对没有被用于图像形成处理的废调色剂进行回收的回收容器,其包括将回收后的废调色剂在回收容器内进行搬送的搬送装置(31),和对回收容器内的废调色剂的量进行检测的检测装置(32),所述搬送装置的构成是,对于从用于废调色剂回收的回收口送入到容器内的废调色剂,从对应于所述回收口的部位开始,能够向互为相反的两个方向同时搬送。
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公开(公告)号:CN102033480A
公开(公告)日:2011-04-27
申请号:CN201010298002.5
申请日:2010-09-27
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 一种润滑剂施加器、成像设备和安装润滑剂施加器的方法,所述润滑剂施加器包括:润滑剂施加单元,其与图像载体的表面接触,刮擦固态润滑剂,并且在移动润滑剂施加单元的表面的同时,将固态润滑剂施加到图像载体的表面上;润滑剂保持元件,其保持所述固态润滑剂;以及润滑剂偏压单元,其将所述固态润滑剂偏压在所述润滑剂施加单元上,其中,所述润滑剂偏压单元在如下状态下容纳在壳体中,即:所述润滑剂偏压单元的一端由所述润滑剂保持元件所保持,使得所述润滑剂偏压单元的所述一端的位置被约束,且所述润滑剂偏压单元的另一端由偏压单元保持元件所保持,所述偏压单元保持元件设置成约束所述润滑剂偏压单元的所述另一端的位置。
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