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公开(公告)号：CN102673212A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210071059.0
申请日：2012-03-16
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: B41M5/44 , B41M5/305 , B41M2205/04 , B41M2205/18 , B41M2205/38 , B41M2205/40
Abstract: 本发明的名称是可逆热敏记录介质和可逆热敏记录元件。可逆热敏记录介质包括：载体；载体上的可逆热敏记录层；和可逆热敏记录层上的保护层，其中可逆热敏记录层包含给电子成色化合物和受电子化合物，其中保护层包含聚酯丙烯酸酯树脂，并且其中保护层具有230℃或更高的玻璃化转变温度并具有10％或更高的伸长率。
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公开(公告)号：CN100577438C
公开(公告)日：2010-01-06
申请号：CN200510137378.7
申请日：2005-11-02
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: B41M5/3375 , B41M5/305 , B41M5/3336 , Y10S430/146
Abstract: 一种可逆热敏记录介质，包括基体和热敏层，所述热敏层包括电子给体着色化合物、电子受体化合物和包括一个或多个硫原子且其一侧带有烷基的酚类抗氧化剂。另外，热敏层根据温度变化可逆地改变其颜色，从而可逆地记录和擦除其上的图像。
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公开(公告)号：CN101279543A
公开(公告)日：2008-10-08
申请号：CN200810092116.7
申请日：2008-04-02
CPC classification number: B41J2/32 , B41J11/002
Abstract: 本文揭示一种加热热敏介质的加热单元。该加热单元包括将电能转化为热能的发热体；发热体固定到其上的固定构件；和直接保持固定构件同时至少接触固定构件的一部分的保持构件。
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公开(公告)号：CN100393531C
公开(公告)日：2008-06-11
申请号：CN200510051858.1
申请日：2005-01-08
Applicant: 株式会社理光
IPC: B41M5/26
CPC classification number: B41M5/426 , B41J2/32 , B41J2/4753 , B41M5/305 , B41M5/40 , Y10T428/25 , Y10T428/256
Abstract: 本发明的目的是提供一种热致可逆记录介质，其不但具有能避免热致可逆记录介质上的静电荷的优良特性，并且可以避免由于打印和擦除热致可逆介质的重复加热导致的热致可逆记录介质的卷曲，而且具有不受重复使用热致可逆记录介质和其使用条件影响的优良输送能力。为了达到该目的，本发明提供了一种热致可逆记录介质，其包含支持体、置于支持体上的热敏层、置于热敏层上的保护层和置于与设有热敏层的支持体另一表面相反的支持体表面上的背层，其中根据温度，热敏层可逆地改变颜色且背层含有针状导电填料。
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公开(公告)号：CN107042704B
公开(公告)日：2019-02-22
申请号：CN201710064191.1
申请日：2017-02-04
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 本发明的题目是记录方法和记录装置。记录方法，其包括：使用包括多个激光‑发射元件和包括光纤阵列的发射单元的记录装置，从光纤阵列发射激光以随着相对地移动记录目标和光纤阵列记录由书写单元形成的图像，其中排列配置为引导由激光‑发射元件发射的激光的多个光纤，其中以如下设定值控制书写单元沿着副扫描方向的最大长度：输入至发射单元的脉冲信号的占空比和周期；施加至记录目标的记录能量；和激光的光斑直径，以在使副扫描方向上书写单元的边缘与相邻书写单元的边缘重叠的情况下记录。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109311339A
公开(公告)日：2019-02-05
申请号：CN201780033381.5
申请日：2017-05-30
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 热敏记录介质，其包括基础材料和记录层，记录层包括光热转换材料并且被布置在基础材料上，其中所述热敏记录介质被配置以通过激光照射在热敏记录介质中记录信息，并且其中通过未记录信息的热敏记录介质观察的背景色调A和不经未记录信息的热敏记录介质直接观察的背景色调B之间的色差ΔE为20以下，并且在通过激光照射进行信息记录后经激光照射的记录层区域的膜厚度D相对于热敏记录介质的未记录信息的记录层的膜厚度C为140％以上但250％以下。
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公开(公告)号：CN101041308A
公开(公告)日：2007-09-26
申请号：CN200710088399.3
申请日：2007-03-19
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: B41M5/44 , B41M5/305 , B41M5/3335
Abstract: 提供了可逆热敏记录介质，其包括载体、形成于所述载体上的热敏记录层和形成于所述热敏记录层上的保护层，其中所述热敏记录层含有给电子着色化合物和受电子化合物，并且色调依赖温度而可逆变化，以及所述保护层含有聚合物组合物，该组合物含有两种丙烯酸酯化合物，其选自具有季戊四醇基团的丙烯酸酯化合物和具有二季戊四醇基团的丙烯酸酯化合物。
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公开(公告)号：CN109311339B
公开(公告)日：2020-12-04
申请号：CN201780033381.5
申请日：2017-05-30
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 热敏记录介质，其包括基础材料和记录层，记录层包括光热转换材料并且被布置在基础材料上，其中所述热敏记录介质被配置以通过激光照射在热敏记录介质中记录信息，并且其中通过未记录信息的热敏记录介质观察的背景色调A和不经未记录信息的热敏记录介质直接观察的背景色调B之间的色差ΔE为20以下，并且在通过激光照射进行信息记录后经激光照射的记录层区域的膜厚度D相对于热敏记录介质的未记录信息的记录层的膜厚度C为140％以上但250％以下。
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公开(公告)号：CN107042704A
公开(公告)日：2017-08-15
申请号：CN201710064191.1
申请日：2017-02-04
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G11B7/126 , B41J2/46 , G11B7/00456 , G11B7/127 , G11B7/1384 , B41J3/445 , B41J2/315
Abstract: 本发明的题目是记录方法和记录装置。记录方法，其包括：使用包括多个激光‑发射元件和包括光纤阵列的发射单元的记录装置，从光纤阵列发射激光以随着相对地移动记录目标和光纤阵列记录由书写单元形成的图像，其中排列配置为引导由激光‑发射元件发射的激光的多个光纤，其中以如下设定值控制书写单元沿着副扫描方向的最大长度：输入至发射单元的脉冲信号的占空比和周期；施加至记录目标的记录能量；和激光的光斑直径，以在使副扫描方向上书写单元的边缘与相邻书写单元的边缘重叠的情况下记录。
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公开(公告)号：CN107042701A
公开(公告)日：2017-08-15
申请号：CN201710064134.3
申请日：2017-02-04
Applicant: 株式会社理光
IPC: B41J2/475
Abstract: 本发明的题目是记录方法和记录装置。记录方法，其包括：使用记录装置从光纤阵列发射激光以随着相对地移动记录目标和光纤阵列记录书写单元的图像，所述记录装置包括激光‑发射元件和包括光纤阵列的发射单元，其中排列引导从激光‑发射元件发射的激光的光纤。其中，其中从在主扫描方向上彼此相邻的光纤施加激光至记录目标以记录在主扫描方向上至少部分地重叠的书写单元的实心图像，与用于记录在实体图像的两个边缘处存在的书写单元的激光的照射能量相比，通过减小用于记录除了实心图像相对于主扫描方向的两个边缘之外的书写单元的激光的照射能量来进行记录。
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