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公开(公告)号：CN105458942B
公开(公告)日：2018-04-06
申请号：CN201510611502.2
申请日：2015-09-23
申请人： 株式会社理光
CPC分类号： B24C3/065 , B08B15/026 , B25J21/02
摘要： 本发明课题在于，提供即使是薄片状的清洗介质也可无堵塞且容易地吸引、有助于提高干洗性能的清洗介质吸引单元。周转箱(4)作为载置于清洗槽内的上部的清洗对象物，若用气枪(10)对周转箱(4)喷射压缩空气，则运送管(18)内变为负压，吸引储存于料斗(16)的清洗介质(22)，从气枪(10)喷射。接触到周转箱(4)的清洗介质(22)落下到料斗(16)，再次被吸起。清洗介质吸引单元(14)包括载置落下的清洗介质的振动板，对该振动板赋与振动的振动源，与振动板的上面之间具有间隙的吸引管，及向层状的清洗介质内部输送空气的吸引管。因振动板的振动，积层状态的清洗介质立起，从吸引管被吸引，供给气枪10。
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公开(公告)号：CN103567192B
公开(公告)日：2016-12-28
申请号：CN201310301359.8
申请日：2013-07-18
申请人： 株式会社理光
IPC分类号： B08B7/00
摘要： 本发明涉及一种干式清洁机架，包括：内部空间，清洁介质在该内部空间中流动；开口部件，该开口部件构造成与清洗对象接触：进气导管，该进气导管构造成将外界空气引入到内部空间中；抽吸端口，该抽吸端口对从进气导管引入到内部空间中的空气抽真空，并且导致在内部空间中产生循环空气流；流路限制构件，该流路限制构件调节循环空气流在内部空间内的循环轴线；清洁介质排出口，该清洁介质排出口与循环空气流的循环流路外部连通，并且被构造成将清洁介质从循环流路排出到外部；和清洁介质导引构件，该清洁介质导引构件将清洁介质引导到清洁介质排出口。
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公开(公告)号：CN102712017B
公开(公告)日：2014-06-11
申请号：CN201080061160.7
申请日：2010-09-15
申请人： 株式会社理光
CPC分类号： B08B7/02 , B24C1/086 , B24C7/0046 , B24C9/006 , G03G2215/00987 , G03G2221/00 , Y02P70/179
摘要： 一种清洁设备，包括清洁罐，该清洁罐具有容纳多个柔性薄片清洁介质的空间；清洁目标物体保持单元，该清洁目标物体保持单元被构造成将其上粘附由粘附物质的清洁目标物体保持在清洁罐的内侧；气流发生器单元，该气流发生器单元被构造成产生气流以将多个柔性薄片清洁介质朝向清洁目标物体移动，使得多个柔性薄片清洁介质接触清洁目标物体，以从清洁目标物体上去除粘附物质；以及粘附物质收集单元，该粘附物质收集单元被构造成移动气流，以收集从清洁目标物体上去除的粘附物质。清洁介质的表面包括磨粒，以通过在所述清洁介质中的具有磨粒的表面与清洁目标物体相接触的同时使得清洁介质具有磨粒的表面在清洁目标物体上滑动，来从清洁目标物体上去除粘附物质。
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公开(公告)号：CN101959621B
公开(公告)日：2013-09-18
申请号：CN200980107028.2
申请日：2009-02-24
申请人： 株式会社理光
CPC分类号： B24C7/0046 , B08B7/02 , B23K3/08 , B24C9/003 , B24C9/006 , Y02P70/179
摘要： 一种清洁装置(1)，通过由气流将清洁介质(5)吹动到物品(4)上执行物品(4)的清洁，清洁装置(1)包括：清洁罐(6)，清洁罐(6)形成用于要被吹动的清洁介质(5)的空间，清洁罐(6)包含开口；保持单元(3)，保持单元(3)在开口保持物品(4)；池构件(19)，池构件(19)布置在开口的外缘，在池构件(19)和物品(4)之间具有空隙；和清洁介质收集单元(8)，清洁介质收集单元(8)使得泄漏出外缘和积聚在空隙中的清洁介质(5)回到清洁罐(6)中。
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公开(公告)号：CN102712017A
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：CN201080061160.7
申请日：2010-09-15
申请人： 株式会社理光
CPC分类号： B08B7/02 , B24C1/086 , B24C7/0046 , B24C9/006 , G03G2215/00987 , G03G2221/00 , Y02P70/179
摘要： 一种清洁设备，包括清洁罐，该清洁罐具有容纳多个柔性薄片清洁介质的空间；清洁目标物体保持单元，该清洁目标物体保持单元被构造成将其上粘附由粘附物质的清洁目标物体保持在清洁罐的内侧；气流发生器单元，该气流发生器单元被构造成产生气流以将多个柔性薄片清洁介质朝向清洁目标物体移动，使得多个柔性薄片清洁介质接触清洁目标物体，以从清洁目标物体上去除粘附物质；以及粘附物质收集单元，该粘附物质收集单元被构造成移动气流，以收集从清洁目标物体上去除的粘附物质。清洁介质的表面包括磨粒，以通过在所述清洁介质中的具有磨粒的表面与清洁目标物体相接触的同时使得清洁介质具有磨粒的表面在清洁目标物体上滑动，来从清洁目标物体上去除粘附物质。
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公开(公告)号：CN101254502A
公开(公告)日：2008-09-03
申请号：CN200710164876.X
申请日：2007-09-06
申请人： 株式会社理光
CPC分类号： B08B7/02 , B24C5/00 , B24C7/0046 , B24C9/00
摘要： 一种直接产生循环空气的循环空气产生单元(6)，所述循环空气沿清洁箱(5)表面流动。循环空气从与清洁介质(4)的表面方向相垂直的方向作用到堆积在清洁箱(5)上的清洁介质(4)，来发送且向上流动清洁介质(4)。通过循环空气的作用力，清洁介质(4)在清洁箱(5)内向上流动。借助从清洁介质加速单元(7)供给的高速空气，在清洁箱(5)中流动的清洁介质(4)与清洁目标对象碰撞，以便清除清洁目标对象上的灰尘。
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公开(公告)号：CN103153494B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201180047599.9
申请日：2011-07-29
申请人： 株式会社理光
摘要： 一种干式清洁壳体（10），其导致清洁介质（PC）被气流散射并使得清洁介质（PC）与清洁对象（CO）形成接触，以对该清洁对象（CO）进行清洁。所述干式清洁壳体（10）包括其中散射所述清洁介质（PC）的内部空间；与清洁对象（CO）形成接触以导致清洁介质（PC）与该清洁对象（CO）碰撞的开口（10E）；将空气从外侧供给到所述内部空间的通风路径（10F）；吸取经通风路径（10F）引入所述内部空间的空气以在所述内部空间中产生旋转气流的吸取口；以及允许从所述清洁对象（CO）上去除的物质穿过的多孔单元（10C）。
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公开(公告)号：CN103402658A
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201280009966.0
申请日：2012-02-15
申请人： 株式会社理光
摘要： 本发明涉及一种干式清洁机架（4），用于通过使清洁介质（5）与清洁目标（20）碰撞来清洁清洁目标（20），清洁介质（5）通过空气流吹送，干式清洁机架包括：内部空间（26），清洁介质（5）在该内部空间中飞行；开口部件（18），与清洁目标（20）接触以便清洁介质（5）与清洁目标（20）相撞；进气导管（24A），将外界空气引入内部空间（26）中；抽吸口（8），通过抽吸引入的外界空气生成由在内部空间（26）中的循环空气流导致的第一空气流；注射口（24B），至少产生增大通过循环空气流飞行的清洁介质（5）的速度的第二空气流；和多孔单元（14），将从清洁目标（20）除去的物体传送到抽吸口（8）侧。
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公开(公告)号：CN102089088B
公开(公告)日：2013-01-23
申请号：CN200980126595.2
申请日：2009-06-30
申请人： 株式会社理光
摘要： 本发明公开了一种清洁装置，用于去除粘附在要被清洁的物体上的沉积物，包括：清洁腔室，该清洁腔室形成用于容纳形状如同薄片的多个清洁介质的空间；循环气流发生单元，该循环气流发生单元被构造成产生循环气流，以在清洁腔室内导致清洁介质飞动并且与所述物体反复碰撞，并由此去除粘附到所述物体上的沉积物；以及清洁介质再循环单元，该清洁介质再循环单元被构造成吸取和去除粘附在已经与物体碰撞的清洁介质上的沉积物，并由此再循环清洁介质。所述清洁介质的铅笔硬度大于所述沉积物的铅笔硬度。
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公开(公告)号：CN1994588B
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN200610064018.3
申请日：2006-11-02
申请人： 株式会社理光
摘要： 本发明公开一种干式清洁技术。利用通过高速气流而流动的清洁介质去除粘附到待清洁物体上的灰尘。利用多孔元件从清洁介质分离被去除的灰尘，其中多孔元件具有很多能通过空气、灰尘、和颗粒状材料但不能通过清洁介质的孔。多孔元件上接收空气以使清洁介质流动的区域和多孔元件上接收空气以抽出从清洁介质中分离出来的灰尘的区域可进行转换。
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