公开(公告)号：CN105051261B

公开(公告)日：2018-09-25

申请号：CN201480017716.0

申请日：2014-03-26

Applicant: 株式会社理研

Inventor： 高阶洋辅

IPC: C25D15/02

Abstract: 为了提供抑制了从覆膜表面到达基材界面的贯通裂纹的产生的三价铬镀覆覆膜、以及包覆有上述三价铬镀覆覆膜的滑动构件，在使用三价铬作为铬源的铬镀浴中分散板状和/或纤维状的第二相后进行镀覆处理，由此，形成在硬铬镀覆覆膜中分散有上述板状和/或纤维状的第二相的构成，利用分散的板状和/或纤维状的第二相使裂纹的传播停止或使其偏转，或者抑制裂纹宽度的扩大，从而抑制硬铬镀覆覆膜中的裂纹的发展。

公开(公告)号：CN105143520A

公开(公告)日：2015-12-09

申请号：CN201480007674.2

申请日：2014-02-10

Applicant: 日本化学工业株式会社 ,  株式会社栗田 ,  株式会社理研

Inventor： 品田学 ,  铃木正行 ,  村松晓 ,  高阶洋辅

IPC: C25D3/06 ,  C25D15/02

CPC classification number: C25D3/06 ,  C25D3/10 ,  C25D5/50 ,  C25D7/10 ,  C25D15/00 ,  F16J9/26

Abstract: 本发明公开了一种活塞环，其具有环状的活塞环基材和形成在活塞环基材的外周面上的镀膜。镀膜为使用三价铬镀液形成的铬镀层，所述三价铬镀液为含有三价铬化合物、pH缓冲剂、氨基磺酸盐化合物、氨基羰基化合物和包含选自二元羧酸及其盐中的至少一种的络合剂的水溶液。

公开(公告)号：CN105051261A

公开(公告)日：2015-11-11

申请号：CN201480017716.0

申请日：2014-03-26

Applicant: 株式会社理研

Inventor： 高阶洋辅

IPC: C25D15/02

CPC classification number: C25D3/06 ,  C10M103/06 ,  C25D7/10 ,  C25D15/00 ,  F16C33/121 ,  F16C33/125 ,  F16C2204/44

Abstract: 为了提供抑制了从覆膜表面到达基材界面的贯通裂纹的产生的三价铬镀覆覆膜、以及包覆有上述三价铬镀覆覆膜的滑动构件，在使用三价铬作为铬源的铬镀浴中分散板状和/或纤维状的第二相后进行镀覆处理，由此，形成在硬铬镀覆覆膜中分散有上述板状和/或纤维状的第二相的构成，利用分散的板状和/或纤维状的第二相使裂纹的传播停止或使其偏转，或者抑制裂纹宽度的扩大，从而抑制硬铬镀覆覆膜中的裂纹的发展。