公开(公告)号：CN115394683A

公开(公告)日：2022-11-25

申请号：CN202210554340.3

申请日：2022-05-19

Applicant: 株式会社荏原制作所 ,  荏原冷热系统株式会社

Inventor： 小博基司 ,  福住幸大 ,  坂内伸隆 ,  宫田启雅 ,  花房直也 ,  田冈健 ,  宫崎一知

IPC: H01L21/67 ,  F25B30/02

Abstract: 本发明提供一种能够促进辅助区内的设备之间的热利用的协作并且消除设备导入时的配管连接的繁琐性的辅助区设置装置。辅助区设置装置(5)具备：真空泵(6)，其用于从处理腔室(2)排出处理气体；冷却单元(7)，其用于对在处理腔室(2)中使用了的第1循环液进行冷却；加热单元(8)，其用于对在处理腔室(2)中使用了的第2循环液进行加热；和冷却液管线(12)，其供从冷却源(15)供给的冷却液流动。冷却液管线(12)具有将冷却液分别向真空泵(6)及冷却单元(7)供给的分配管线(21)、和将从真空泵(6)及冷却单元(7)通过了的冷却液合流并使其向冷却源(15)返回的合流返回管线(22)。

公开(公告)号：CN115388603A

公开(公告)日：2022-11-25

申请号：CN202210553685.7

申请日：2022-05-19

Applicant: 株式会社荏原制作所 ,  荏原冷热系统株式会社

Inventor： 小博基司 ,  福住幸大 ,  坂内伸隆 ,  宫田启雅 ,  花房直也 ,  田冈健 ,  宫崎一知

IPC: F25D17/02 ,  F25D29/00 ,  F25D31/00 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供能够减少在制造半导体时使用的电能消耗的辅助区设置装置。辅助区设置装置具备：真空泵(6)，其用于从半导体制造装置的处理腔室(2)对处理气体进行排气；冷却单元(7)，其用于冷却在处理腔室(2)中使用后的第1循环液；加热单元(8)，其用于加热在处理腔室(2)中使用后的第2循环液；除害装置(10)，其用于对从真空泵(6)排出的处理气体进行除害；以及冷却液管线(12)，其供从冷却源(15)供给的冷却液流动。冷却液管线(12)具有将通过除害装置(10)、真空泵(6)及冷却单元(7)后的冷却液向加热单元(8)供给的第1下游侧管线(26)、第2下游侧管线(27)及第3下游侧管线(28)。