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    扫描曝光装置
    1.
    发明公开
    扫描曝光装置 失效

    公开(公告)号：CN107407888A

    公开(公告)日：2017-11-28

    申请号：CN201680010209.3

    申请日：2016-02-17

    Applicant: 株式会社V技术 ,  夏普株式会社

    Inventor： 吉田祐治 ,  松本峰征 ,  新井敏成 ,  田中茂树 ,  片寄敬太 ,  铃木英幸 ,  神户诚

    IPC: G03F7/20 ,  G02F1/1337

    CPC classification number: H04N1/0282 ,  G03F1/88 ,  H04N1/40056 ,  H04N1/401

    Abstract: 本发明提供一种扫描曝光装置。为了改善扫描曝光装置的生产节拍时间并提高吞吐量，在进行光源的高照度化和扫描速度的高速化时，防止在基板的端部附近的曝光不均。扫描曝光装置(1)具备：载物台(2)，在与载物台表面(2A)之间设置间隙(2S)而支撑基板(W)；光源单元(3)，向沿基板(W)上的一方向延伸设置的光照射区域(3L)照射光；及扫描装置(4)，使载物台(2)与光源单元(3)的一方或双方沿与一方向交叉的扫描方向(S)相对移动，在扫描装置(4)中设置有从载物台(2)及光源单元(3)静止的位置直至被载物台(2)支撑的基板(W)进入到光照射区域(3L)的加速区间(F)，载物台(2)在其端部具备覆盖载物台表面(2A)与基板(W)之间的间隙(2S)的遮光体(20)。

    扫描曝光装置
    2.
    发明授权
    扫描曝光装置 失效

    公开(公告)号：CN107407888B

    公开(公告)日：2019-03-29

    申请号：CN201680010209.3

    申请日：2016-02-17

    Applicant: 株式会社V技术 ,  夏普株式会社

    Inventor： 吉田祐治 ,  松本峰征 ,  新井敏成 ,  田中茂树 ,  片寄敬太 ,  铃木英幸 ,  神户诚

    IPC: G03F7/20 ,  G02F1/1337

    Abstract: 本发明提供一种扫描曝光装置。为了改善扫描曝光装置的生产节拍时间并提高吞吐量，在进行光源的高照度化和扫描速度的高速化时，防止在基板的端部附近的曝光不均。扫描曝光装置(1)具备：载物台(2)，在与载物台表面(2A)之间设置间隙(2S)而支撑基板(W)；光源单元(3)，向沿基板(W)上的一方向延伸设置的光照射区域(3L)照射光；及扫描装置(4)，使载物台(2)与光源单元(3)的一方或双方沿与一方向交叉的扫描方向(S)相对移动，在扫描装置(4)中设置有从载物台(2)及光源单元(3)静止的位置直至被载物台(2)支撑的基板(W)进入到光照射区域(3L)的加速区间(F)，载物台(2)在其端部具备覆盖载物台表面(2A)与基板(W)之间的间隙(2S)的遮光体(20)。

    反射型显示器件及其制造方法
    5.
    发明公开
    反射型显示器件及其制造方法 失效

    公开(公告)号：CN1716010A

    公开(公告)日：2006-01-04

    申请号：CN200510076596.4

    申请日：2005-06-09

    Applicant: 夏普株式会社

    Inventor： 藤原小百合 ,  泽山丰 ,  箕浦洁 ,  神户诚

    IPC: G02F1/133 ,  G02F1/1335

    CPC classification number: G02F1/136227 ,  G02F1/133553

    Abstract: 反射型显示器件200包括：一包括多个切换元件201t的有源切换层201s；多个像素电极207，每一个均连接到一个相应的切换元件201t上；一在有源切换层201s与像素电极207之间形成的反射层205；以及一位于像素电极207面向观察者一侧的调制层213，该调制层213能在光学特性各不相同的第一态与第二态之间切换。反射层205既不与切换元件201t也不与像素电极207相连接。

    显示部件和显示装置
    6.
    发明授权
    显示部件和显示装置 有权

    公开(公告)号：CN105556382B

    公开(公告)日：2019-02-19

    申请号：CN201480052040.9

    申请日：2014-07-17

    Applicant: 夏普株式会社

    Inventor： 今井启裕 ,  神户诚 ,  深山誉章 ,  上田亮 ,  田中茂树

    IPC: G02F1/1337

    Abstract: 阵列基板(11b)包括：被划分为显示区域(AA)和非显示区域(NAA)的玻璃基板(GS)；以跨越显示区域(AA)和非显示区域(NAA)的方式配置的有机绝缘膜(40)；以与有机绝缘膜(40)的表面重叠的方式设置的阵列基板侧取向膜(11e)；配置在非显示区域(NAA)并且以使有机绝缘膜(40)的表面部分地凹陷的方式设置的成膜范围限制部(28)；和取向膜材料储存部(29)，其配置在非显示区域(NAA)中比成膜范围限制部(28)更靠近显示区域(AA)的位置，并且以使有机绝缘膜(40)部分地凹陷的方式设置，并且，其侧面的至少一部分相对于玻璃基板(GS)的板面的法线方向形成的角度，大于成膜范围限制部(28)的侧面相对于上述法线方向形成的角度。

    显示部件和显示装置
    7.
    发明公开
    显示部件和显示装置 有权

    公开(公告)号：CN105556382A

    公开(公告)日：2016-05-04

    申请号：CN201480052040.9

    申请日：2014-07-17

    Applicant: 夏普株式会社

    Inventor： 今井启裕 ,  神户诚 ,  深山誉章 ,  上田亮 ,  田中茂树

    IPC: G02F1/1337

    CPC classification number: G02F1/1337 ,  G02F1/133345 ,  G02F1/133711 ,  G02F1/1339 ,  G02F2001/133388

    Abstract: 阵列基板(11b)包括：被划分为显示区域(AA)和非显示区域(NAA)的玻璃基板(GS)；以跨越显示区域(AA)和非显示区域(NAA)的方式配置的有机绝缘膜(40)；以与有机绝缘膜(40)的表面重叠的方式设置的阵列基板侧取向膜(11e)；配置在非显示区域(NAA)并且以使有机绝缘膜(40)的表面部分地凹陷的方式设置的成膜范围限制部(28)；和取向膜材料储存部(29)，其配置在非显示区域(NAA)中比成膜范围限制部(28)更靠近显示区域(AA)的位置，并且以使有机绝缘膜(40)部分地凹陷的方式设置，并且，其侧面的至少一部分相对于玻璃基板(GS)的板面的法线方向形成的角度，大于成膜范围限制部(28)的侧面相对于上述法线方向形成的角度。

    显示元件和显示装置
    8.
    发明公开
    显示元件和显示装置 失效

    公开(公告)号：CN104885007A

    公开(公告)日：2015-09-02

    申请号：CN201380068026.3

    申请日：2013-12-20

    Applicant: 夏普株式会社

    Inventor： 今井启裕 ,  神户诚 ,  深山誉章 ,  上田亮 ,  小畑太一 ,  田中茂树

    IPC: G02F1/1368

    CPC classification number: G02F1/136227 ,  G02F1/133345 ,  G02F1/1337 ,  G02F1/134363 ,  G02F1/13439

    Abstract: 阵列基板(11b)包括：第一导电膜；第二导电膜，其配置在第一导电膜靠的上层侧，至少一部分俯视时与第一导电膜重叠；绝缘膜，其以介于第一导电膜与第二导电膜之间的方式配置，具有接触孔，该接触孔以在俯视时与第一导电膜和第二导电膜重叠的位置开口的方式形成，由此将第二导电膜与第一导电膜连接；取向膜(11e)，其配置在第二导电膜的上层侧，具有俯视时与接触孔重叠的部分和俯视时与接触孔不重叠的部分；和弯曲部(43)，其由绝缘膜中的接触孔的开口边缘的至少一部分构成，以俯视时在内侧形成优角的方式弯曲。

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