公开(公告)号：CN104335393B

公开(公告)日：2016-09-21

申请号：CN201480001312.2

申请日：2014-03-05

申请人： 横河电机株式会社 ,  东丽工程株式会社

发明人： 宫本浩幸 ,  佐佐木尚史 ,  渡边敦 ,  中岛一茂 ,  西松洋平 ,  北岛贤司

IPC分类号： H01M4/04 ,  B05C5/02 ,  B05C11/10

CPC分类号： H01M4/0402 ,  B05C5/02 ,  B05C5/0254 ,  B05C11/1005 ,  B05C11/1023 ,  H01M4/0419

摘要： 在将电极活性材料等涂敷物涂敷至基材时，将基材宽度方向的涂敷物的表面形状优化。本发明的控制系统具有：间隙调整部，其对用于喷出涂敷物的喷嘴和涂敷物所涂敷的基材之间的间隙进行调整；转速调整部，其对将涂敷物压送至喷嘴的泵的转速进行调整；模型计算部，其基于对涂敷物在基材宽度方向的表面形状中的上升区域的形状进行模拟而得到的端部模型、以及对表面形状中被上升区域夹着的中央区域的形状进行模拟而得到的中央部模型，通过计算求出涂敷物的表面形状；比较部，其对利用模型计算部计算出的涂敷物的表面形状和预先设定的设定形状进行比较；以及控制运算部，其基于比较部的比较结果，求出间隙调整部以及转速调整部中的至少某一者的控制量。

公开(公告)号：CN104335393A

公开(公告)日：2015-02-04

申请号：CN201480001312.2

申请日：2014-03-05

申请人： 横河电机株式会社 ,  东丽工程株式会社

发明人： 宫本浩幸 ,  佐佐木尚史 ,  渡边敦 ,  中岛一茂 ,  西松洋平 ,  北岛贤司

IPC分类号： H01M4/04 ,  B05C5/02 ,  B05C11/10

CPC分类号： H01M4/0402 ,  B05C5/02 ,  B05C5/0254 ,  B05C11/1005 ,  B05C11/1023 ,  H01M4/0419 ,  H01M4/043 ,  B05C11/10

摘要： 在将电极活性材料等涂敷物涂敷至基材时，将基材宽度方向的涂敷物的表面形状优化。本发明的控制系统具有：间隙调整部，其对用于喷出涂敷物的喷嘴和涂敷物所涂敷的基材之间的间隙进行调整；转速调整部，其对将涂敷物压送至喷嘴的泵的转速进行调整；模型计算部，其基于对涂敷物在基材宽度方向的表面形状中的上升区域的形状进行模拟而得到的端部模型、以及对表面形状中被上升区域夹着的中央区域的形状进行模拟而得到的中央部模型，通过计算求出涂敷物的表面形状；比较部，其对利用模型计算部计算出的涂敷物的表面形状和预先设定的设定形状进行比较；以及控制运算部，其基于比较部的比较结果，求出间隙调整部以及转速调整部中的至少某一者的控制量。