公开(公告)号：CN117858858A

公开(公告)日：2024-04-09

申请号：CN202280050311.1

申请日：2022-07-12

申请人： 欧瑞康表面解决方案股份公司 ,  普费菲孔

发明人： B·科尔豪瑟 ,  H·肖赫 ,  B·韦德里格 ,  J·拉姆

IPC分类号： C04B41/52 ,  C23C28/04 ,  C23C14/32 ,  C23C14/08 ,  C23C14/00 ,  C04B41/90 ,  C04B111/00 ,  C04B41/89 ,  C04B41/00

摘要： 本发明涉及一种包括至少一个耐CMAS层的耐CMAS覆盖涂层(240)，其中覆盖涂层(240)i.布置在基材(10a)的表面(11a)上，所述基材(10a)包含易受CMAS腐蚀的材料或由其组成，ii.包括金属氧化物基质，并且iii.具有至少部分垂直柱状结构。此外，在金属氧化物基质中包埋至少一种选自铝、铬以及包含铝和铬或由其组成的金属组分的非氧化金属组分。另外，本发明还涉及在易受CMAS腐蚀的材料的表面(231)上具有所讨论的耐CMAS覆盖涂层(240)的基材(10a)。本发明也涉及在易受CMAS腐蚀的材料的表面(231)上形成这样的耐CMAS覆盖涂层(240)的CAE方法。

公开(公告)号：CN118829622A

公开(公告)日：2024-10-22

申请号：CN202280080349.3

申请日：2022-11-30

申请人： 欧瑞康表面解决方案股份公司 ,  普费菲孔

发明人： 陈殿营 ,  B·韦德里格 ,  J·拉姆

IPC分类号： C04B41/89 ,  F01D5/28

摘要： 公开了用于合成环境阻隔涂层系统(EBC)的制造方法，所述环境阻隔涂层系统保护Si基陶瓷基质复合(CMC)材料在高温下免于氧化和挥发。该制造方法在真空中进行，并包括沉积硅结合涂层和含氧阻隔涂层的步骤。该方法由等离子体支持，优选通过和电弧放电，其导致气体前体如硅烷的完全离解。等离子体也用于在不中断的工艺链中预处理基材。公开了具有基本真空和等离子体组分的沉积系统以及通过所述方法制造的EBC涂层。