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公开(公告)号:CN117025119A
公开(公告)日:2023-11-10
申请号:CN202311108390.X
申请日:2023-08-30
申请人: 武汉大学
IPC分类号: C09J7/30 , B81B7/04 , B81C1/00 , C09J7/25 , C09J183/04
摘要: 本发明公开了一种表面带有凹坑的壳‑核结构微米级阵列黏附垫。该黏附垫包括:软背底,一软性平面;柱状阵列结构,由多个柱状单元阵列于软背底上形成,用于产生粘附力;其中,所述柱状单元包括:软壳,为中空筒体;硬核,柱状结构,嵌套于软壳中;凹坑,由软壳和硬核顶部高度差形成的腔体,用于在较小的负载下实现更好的接触和更大的接触面积。本技术方案用于在干态、湿态、液下等复杂环境下的循环黏附。该黏附垫稳定性好,粘附力高,解决了传统柱状阵列仿生黏附垫粘附力低,无法在复杂环境下实现有效黏附的弊端,在无损转运、微纳加工、机器人等领域具有广阔的运用场景。