一种真空离子溅射镀膜机及超薄薄膜连续金属化方法

    公开(公告)号:CN116200710A

    公开(公告)日:2023-06-02

    申请号:CN202211658113.1

    申请日:2022-12-22

    Abstract: 本发明涉及一种真空离子溅射镀膜机及超薄薄膜连续金属化方法。该真空离子溅射镀膜机包括真空罩、靶材、柱盖、升降柱、旋转基台、电动横杆、制冷装置、样品夹具、侧柱、底座、空心柱等,通过升降柱在水平面内的转动以及旋转基台和其上的样品夹具同步转动,实现了均匀镀膜;通过升降柱在竖直方向上的上下运动及电动横杆的转动,实现了样品夹具的翻转;通过制冷装置的散热和降温作用,保证超薄薄膜始终在低温下进行金属化,避免出现凹陷、热击穿和镀膜不均等现象。整套装置具有结构简单、使用及维护方便、金属膜层质量好、自动化程度高等一系列优点,在真空离子溅射镀膜领域有较好的应用前景。

    一种盘状液晶分子功能改性剂及其制备方法、应用

    公开(公告)号:CN115583897A

    公开(公告)日:2023-01-10

    申请号:CN202211279179.X

    申请日:2022-10-19

    Abstract: 本发明涉及一种盘状液晶分子功能改性剂及其制备方法、应用。首先以均苯三甲酰氯单体、带氨基的柔性碳链化合物为原料,合成了盘状液晶分子功能改性剂;然后将制得的盘状液晶分子功能改性剂与聚合物基体混合,通过流延法或熔融挤出法制得了性能优异的复合薄膜材料。本发明利用盘状液晶分子功能改性剂有效调控聚合物的结晶结构,降低聚合物的晶粒尺寸,提高β相含量,增加其与聚合物基体之间的界面相互作用,从而提高了复合薄膜材料的介电常数、击穿场强、力学性能和储能密度。本发明具有原料易得、合成方法简单、尺寸可调控、产率高、用量少、纯化容易、适合工业生产等优点,在调控聚合物薄膜材料的结晶结构和性能方面具有较好的应用前景。

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