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公开(公告)号:CN112907533A
公开(公告)日:2021-06-04
申请号:CN202110185338.9
申请日:2021-02-10
申请人: 武汉精测电子集团股份有限公司 , 武汉精立电子技术有限公司
摘要: 本发明提供一种检测模型训练方法、装置、设备及可读存储介质。该方法包括:获取图片以及所述图片上各个像素点的位置信息;基于所述图片以及所述图片上各个像素点的位置信息对神经网络进行训练,得到用于自动光学检测的检测模型。通过本发明,在通过图片训练神经网络时加入图片上各像素点的位置信息,增加了图片数据的维度,使得最终训练得到的检测模型可以结合图片特征以及图片上各像素点的位置信息实现对图片的检测,可避免因图片成像失真导致检测错误的情况发生,提高了光学自动检测的准确率。
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公开(公告)号:CN112819758A
公开(公告)日:2021-05-18
申请号:CN202110070078.0
申请日:2021-01-19
申请人: 武汉精测电子集团股份有限公司 , 武汉精立电子技术有限公司
摘要: 本发明提供一种训练数据集的生成方法、装置、设备及可读存储介质。该方法包括:生成缺陷样本图片集;将所述缺陷样本图片集中的至少一张图片分别输入失真干扰系统,所述失真干扰系统为使输入的图片失真的系统;所述失真干扰系统包括面板显示失真系统和成像失真系统,所述面板显示失真系统为由于面板显示参数的不同使得图片具有不同失真的系统,所述成像失真系统为由于成像的干扰因素使得图片失真的系统;将所述失真干扰系统输出的图片集作为训练数据集。通过本发明,生成多样性以及真实性均较高的训练数据集,从而使得基于该训练数据集训练得到的用于缺陷检测的深度神经网络模型具有高度泛化性和通用性。
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公开(公告)号:CN214374364U
公开(公告)日:2021-10-08
申请号:CN202120218886.2
申请日:2021-01-27
申请人: 武汉精立电子技术有限公司 , 武汉精测电子集团股份有限公司
摘要: 本实用新型公开了一种基于光学成像的缺陷检测装置。该装置包括:多光谱光源、滤光调节单元、偏振调节单元、入射角调节单元、反射角调节单元和相机,所述滤光调节单元和所述偏振调节单元被设置在所述多光谱光源的发射光到达待检测产品的入射光路上,所述相机被设置在所述多光谱光源的发射光到达所述待检测产品后的反射光路上;所述相机用于分别采集所述滤光调节单元、所述偏振调节单元、所述入射角调节单元和所述反射角调节单元处于不同状态时所述待检测产品的图像。本实用新型的装置结构简单,成本低,灵活性好,可以快速分析确定最优成像方案,实现高可靠度的工业质检场景需要。
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