液态硅生产装置及方法
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107973300B

    公开(公告)日:2024-01-05

    申请号:CN201610938912.2

    申请日:2016-10-25

    摘要: 本发明公开了一种液态硅生产装置及方法,该装置包括依次连接的等离子发生器、反应器、硅液承载器和尾气分离系统,在反应器内依次存在气体冷凝区、液滴形成区和液滴生长区。该方法是使物料在装置内进行原子态物料‑微小硅液滴‑大的硅液滴‑硅液的转化,对大部分硅物质进行液态收集,只有很少一部分的硅物质形成硅微粉从尾气系统排出。采用本发明,能够直接得到高纯液态硅材料,操作工序简单,且允许液态硅材料直接输送到下游的铸锭工序、直拉单晶工序或者制备硅片等工序,能够极大降低多晶硅生产投资成本,保证生产装置稳定长周期运行,提高产量。

    利用氯硅烷制备分子筛的方法

    公开(公告)号:CN102009984B

    公开(公告)日:2012-07-25

    申请号:CN201010519498.4

    申请日:2010-10-26

    IPC分类号: C01B39/02 C01B39/24 C01B39/14

    摘要: 本发明公开了一种利用氯硅烷制备分子筛的方法:1)将氯硅烷与氢氧化钠溶液在反应器中混合,控制氢氧化钠溶液的量调节混合溶液的pH至碱性;2)将步骤1)得到的混合溶液在0~60℃下陈化形成凝胶;3)将步骤2)得到的凝胶在80~200℃下高温晶化得到分子筛晶粒;4)将步骤3)得到的分子筛晶粒经过滤、洗涤、400~500℃高温煅烧1~4h后研磨得到分子筛粉体。通过本发明可以利用西门子法多晶硅工艺的副产物氯硅烷做原料,制备出高附加值的高纯分子筛化工产品。

    一种高纯纳米晶硅的生产方法

    公开(公告)号:CN110890537B

    公开(公告)日:2023-08-04

    申请号:CN201811055695.8

    申请日:2018-09-11

    摘要: 本发明公开了一种高纯纳米晶硅的生产方法,1)将废硅料和/或副产硅粉,经预处理后得到10~50μm硅粉;2)将步骤1)中的硅粉按照固含量5~30 wt%的比例加入到分散液中,再加入1~10wt%的分散剂,在分散罐中搅拌,形成硅粉浆料;3)将步骤2)形成硅粉浆料抽至砂磨机进行研磨,得到平均粒径为20~30 nm纳米晶硅浆料;4)将步骤3)中得到的纳米晶硅浆料输送至喷雾干燥系统,获得纳米多孔晶硅颗粒。本发明实现低成本大规模生产,有效地控制纳米晶硅的稳定性、纯度和粒度,生产的纳米多孔晶硅颗粒形貌可调,其内部孔隙为纳米连通孔,有效地缓解硅的体积膨胀,也显著地提高硅负极的电学性能。

    一种氮化硅粉的生产方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110272283A

    公开(公告)日:2019-09-24

    申请号:CN201810207094.8

    申请日:2018-03-14

    IPC分类号: C04B35/584 C01C1/16 C04B35/64

    摘要: 本发明公开了一种氮化硅粉的生产方法,包括:1)以四氯化硅和氨气为原料,反应合成氮化硅的前驱体Si(NH)2固体,通过得到纯净的Si(NH)2粉末;2)将Si(NH)2移至高温炉中,煅烧得到非晶态氮化硅粉;3)将得到的氮化硅粉细化、压块后移入高温结晶炉中,煅烧获得晶态氮化硅粉。本发明可连续不间断地合成氮化硅前驱体,同时采用两次煅烧处理即Si(NH)2低温分解和非晶氮化硅粉的高温结晶,灵活控制最终产品氮化硅粉的粒径、形状及相组成;整个工艺过程没有机溶剂的参与,避免产品氮化硅粉中碳杂质的产生;该产品所用原料国内已规模化生产,实现低成本生产高纯亚微米等轴氮化硅粉。

    一种多晶硅制备方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102557038A

    公开(公告)日:2012-07-11

    申请号:CN201110457997.X

    申请日:2011-12-31

    发明人: 江宏富 钟真武

    IPC分类号: C01B33/035

    CPC分类号: Y02P20/124

    摘要: 本发明公开了一种多晶硅的制备方法,其包括在还原炉反应器内,原料三氯氢硅与高纯氢气在1050-1250℃高温、0~0.8MPa条件下发生化学气相沉积反应,并在发热的硅芯表面沉积多晶硅的步骤,其特征在于所述化学气相沉积过程中,向还原炉内通入0.1%~20%卤化氢气体。本发明能有效抑制还原炉内体相中产生硅粉,消除雾化现象,反应所产生的热量可供多晶硅沉积使用,提高能量利用效率和硅沉积速率,而且无需降低反应温度和卤代硅烷浓度,卤化氢在硅棒表面的刻蚀,有助于改善表面形貌,得到致密多晶硅棒。

    一种多晶硅制备方法
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102557038B

    公开(公告)日:2015-05-13

    申请号:CN201110457997.X

    申请日:2011-12-31

    发明人: 江宏富 钟真武

    IPC分类号: C01B33/035

    CPC分类号: Y02P20/124

    摘要: 本发明公开了一种多晶硅的制备方法,其包括在还原炉反应器内,原料三氯氢硅与高纯氢气在1050-1250℃高温、0~0.8MPa条件下发生化学气相沉积反应,并在发热的硅芯表面沉积多晶硅的步骤,其特征在于所述化学气相沉积过程中,向还原炉内通入0.1%~20%卤化氢气体。本发明能有效抑制还原炉内体相中产生硅粉,消除雾化现象,反应所产生的热量可供多晶硅沉积使用,提高能量利用效率和硅沉积速率,而且无需降低反应温度和卤代硅烷浓度,卤化氢在硅棒表面的刻蚀,有助于改善表面形貌,得到致密多晶硅棒。

    一种高效节能的多晶硅制备工艺及装置

    公开(公告)号:CN102953119A

    公开(公告)日:2013-03-06

    申请号:CN201110239301.6

    申请日:2011-08-19

    发明人: 朱共山 江宏富

    IPC分类号: C30B28/02 C30B29/06

    摘要: 本发明涉及一种多晶硅制备工艺和用于本工艺的多晶硅制备装置,制备工艺是在自蔓延燃烧反应器,采用卤化盐为氧化剂,化学元素周期表IA、IIA族元素或其合金为还原剂,连续式生产高纯多晶硅,并可在生产过程中连续铸造多晶硅锭。具有原料价廉、工艺简单、副产物能回收利用等优点。制备装置包括由反应器内衬和外壳限定的中空腔体,其顶端设有还原剂进料管、氧化剂进料管和尾气出口,其底端设有主、副产物出口管;其底部设有辅助换热器;氧化剂喷嘴伸入中空腔体的位置高于还原剂喷嘴,且还原剂喷嘴为旋转喷嘴,氧化剂喷嘴与气体分布盘连接。该装置可实现比传统实践更高的产量和更好的收率,且成本较低。

    一种高纯纳米晶硅的生产方法
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110890537A

    公开(公告)日:2020-03-17

    申请号:CN201811055695.8

    申请日:2018-09-11

    摘要: 本发明公开了一种高纯纳米晶硅的生产方法,1)将废硅料和/或副产硅粉,经预处理后得到10~50μm硅粉;2)将步骤1)中的硅粉按照固含量5~30 wt%的比例加入到分散液中,再加入1~10wt%的分散剂,在分散罐中搅拌,形成硅粉浆料;3)将步骤2)形成硅粉浆料抽至砂磨机进行研磨,得到平均粒径为20~30 nm纳米晶硅浆料;4)将步骤3)中得到的纳米晶硅浆料输送至喷雾干燥系统,获得纳米多孔晶硅颗粒。本发明实现低成本大规模生产,有效地控制纳米晶硅的稳定性、纯度和粒度,生产的纳米多孔晶硅颗粒形貌可调,其内部孔隙为纳米连通孔,有效地缓解硅的体积膨胀,也显著地提高硅负极的电学性能。