公开(公告)号：CN115599054A

公开(公告)日：2023-01-13

申请号：CN202211211850.7

申请日：2022-09-30

申请人： 江苏启威星装备科技有限公司(CN)

发明人： 裴文龙 ,  龚庆 ,  刘文东 ,  徐大沩

IPC分类号： G05B19/418 ,  H01L21/67

摘要： 本申请公开了一种药液浓度的控制方法、设备及计算机可读存储介质，属于半导体工艺技术领域。一种药液浓度的控制方法，应用于半导体工艺设备，该控制方法包括：获取硅片于半导体工艺设备中与药液反应预设时间前后的质量差；根据质量差，获得药液中活性成分的第一损失量以及硅化产物的浓度；判断硅化产物的浓度是否大于或等于阈值；若否，则根据第一损失量调整药液中活性成分的浓度；若是，则按照第一排放量将半导体工艺设备中的部分药液排出，并根据第一排放量和第一损失量调整药液中活性成分的浓度。本申请可以解决当前对硅片处理过程中槽内的药液的有效成分会随着反应的进行不断被消耗所造成的处理过程不稳定的问题。