等离子体创面处置系统、方法、装置及存储介质

    公开(公告)号:CN115068845A

    公开(公告)日:2022-09-20

    申请号:CN202210998253.7

    申请日:2022-08-19

    IPC分类号: A61N5/10

    摘要: 本说明书实施例提供一种等离子体创面处置系统、方法、装置及存储介质,包括电源装置、等离子体生成装置、等离子体阵列装置,以及控制器;电源装置用于对创面处置系统进行供电;等离子体生成装置用于生成等离子体;等离子体阵列装置用于传递等离子体;控制器用于基于患者的创面特征,确定等离子体生成装置生成的等离子体的等离子体生成参数;创面特征包括受伤时间、创面周边温度、创面类型中的至少一种;等离子体生成参数包括所述等离子体的强度、所述等离子体的温度中的至少一种。

    低温等离子体在杀灭RNA、DNA类型病毒的应用方法和装置

    公开(公告)号:CN115154628A

    公开(公告)日:2022-10-11

    申请号:CN202211068658.7

    申请日:2022-09-02

    IPC分类号: A61L2/14 A61L2/24 A61N5/10

    摘要: 本说明书实施例提供一种低温等离子体在杀灭RNA、DNA类型病毒的应用方法和装置。该装置包括:底座,用于感应待处理对象;低温等离子体喷头,用于向待处理对象释放低温等离子体;以及与底座以及低温等离子体喷头通信连接的控制器,控制器用于:响应于所述待处理对象处于底座上时,确定待处理对象的第一特征信息;基于第一特征信息,确定目标消毒高度序列;针对目标消毒高度序列中的每个目标消毒高度,控制低温等离子体喷头在该目标消毒高度执行消毒操作,并判断是否完成该目标消毒高度处的消毒操作;当低温等离子体喷头完成该目标消毒高度处的消毒操作,控制低温等离子体喷头移动至目标消毒高度序列中的下一目标消毒高度并执行消毒操作。

    冷等离子体用于精密器械、耗材的杀菌消毒方法和装置

    公开(公告)号:CN115381976A

    公开(公告)日:2022-11-25

    申请号:CN202211064018.9

    申请日:2022-08-31

    IPC分类号: A61L2/14 A61L2/24

    摘要: 本说明书实施例提供一种冷等离子体用于精密器械、耗材的杀菌消毒方法和装置。该杀菌消毒装置包括:杀菌处理仓,用于基于冷等离子体对待处理物进行杀菌处理,其中,所述杀菌处理仓包含用于释放所述冷等离子体的等离子体发生电极;以及控制器,与杀菌处理仓通信连接;所述控制器用于:获取待处理物的裸露表面积和体积;根据所述裸露表面积以及所述体积,确定杀菌消毒参数;其中,所述杀菌消毒参数至少包括释放所述冷等离子体的时间参数以及所述待处理物在所述杀菌处理仓内的旋转参数;以及根据所述杀菌消毒参数控制所述杀菌处理仓对所述待处理物进行杀菌消毒处理。

    冷等离子体用于精密器械、耗材的杀菌消毒方法和装置

    公开(公告)号:CN115381976B

    公开(公告)日:2023-11-24

    申请号:CN202211064018.9

    申请日:2022-08-31

    IPC分类号: A61L2/14 A61L2/24

    摘要: 本说明书实施例提供一种冷等离子体用于精密器械、耗材的杀菌消毒方法和装置。该杀菌消毒装置包括:杀菌处理仓,用于基于冷等离子体对待处理物进行杀菌处理,其中,所述杀菌处理仓包含用于释放所述冷等离子体的等离子体发生电极;以及控制器,与杀菌处理仓通信连接;所述控制器用于:获取待处理物的裸露表面积和体积;根据所述裸露表面积以及所述体积,确定杀菌消毒参数;其中,所述杀菌消毒参数至少包括释放所述冷等离子体的时间参数以及所述待处理物在所述杀菌处理仓内的旋转参数;以及根据所述杀菌消毒参数控制所述杀菌处理仓对所述待处理物进行杀菌消毒处理。

    等离子体创面处置系统、方法、装置及存储介质

    公开(公告)号:CN115068845B

    公开(公告)日:2022-11-22

    申请号:CN202210998253.7

    申请日:2022-08-19

    IPC分类号: A61N5/10

    摘要: 本说明书实施例提供一种等离子体创面处置系统、方法、装置及存储介质,包括电源装置、等离子体生成装置、等离子体阵列装置,以及控制器;电源装置用于对创面处置系统进行供电;等离子体生成装置用于生成等离子体;等离子体阵列装置用于传递等离子体;控制器用于基于患者的创面特征,确定等离子体生成装置生成的等离子体的等离子体生成参数;创面特征包括受伤时间、创面周边温度、创面类型中的至少一种;等离子体生成参数包括所述等离子体的强度、所述等离子体的温度中的至少一种。

    应用于内窥镜内壁消毒的多段电极等离子体射流触发方法

    公开(公告)号:CN113692100B

    公开(公告)日:2023-03-24

    申请号:CN202110908122.0

    申请日:2021-08-09

    IPC分类号: H05H1/24 A61L2/14

    摘要: 本发明公开一种应用于内窥镜内壁消毒的多段电极等离子体射流触发方法,包括步骤一到步骤六,在进行内窥镜管道消毒过程中,先部分插入内窥镜管道,位置处于电极装置端部的锐化边沿电场内,并预先让惰性气体通入整个装置套管,实现规律可重复性的有效触发启动,解决了等离子体放电的启动问题,采用多分段电极结构做出的改进,添加“点火”触发功能,降低等离子体放电起始电压和放电维持电压,即使处理不同长度和管径的内窥镜管道,放电电压和频率也可以稳定在一个较低的恒定范围内,而且没有发生沿面放电损坏内窥镜管道外壁的风险。