-
公开(公告)号:CN101372353A
公开(公告)日:2009-02-25
申请号:CN200810123934.9
申请日:2008-06-12
申请人: 江苏工业学院
IPC分类号: C01F17/00
摘要: 超声雾化工艺制备纳米CeO2粉体的方法,涉及纳米粉体制备领域,其特征是称取一定量的铈盐和沉淀剂分别溶于蒸馏水中制备成一定浓度的反应液,其中反应液中Ce3+的浓度范围为0.1~1mol/L,沉淀剂与铈盐浓度摩尔比在2∶1~20∶1之间。将两种反应溶液分别超声雾化后通入的反应器中混合后反应,并收集反应生成的悬浮状沉淀物,再将沉淀物洗涤、干燥,最后经过在300℃~800℃锻烧0.5~3h,即可得到淡黄色的纳米CeO2粉体。本发明采用简单的化学工艺制备出单分散性很好的纳米CeO2粉体,无需复杂的设备,所需化学原料种类少、价廉、污染少,可重复性好,其颗粒形貌为近球形,粒度为纳米级。
-
公开(公告)号:CN101239308B
公开(公告)日:2010-08-04
申请号:CN200810019827.1
申请日:2008-03-18
申请人: 江苏工业学院
摘要: 本发明涉及非金属矿产资源精加工和无机化工技术领域,其特征在于将天然凹凸棒石粘土用盐酸预处理后,制成固含量约为10%的浆料,再取一定量的凹凸棒浆料和铈盐混合溶于去离子水中,将溶液用电动搅拌器搅拌均匀,其中Ce3+相对于溶液的浓度范围为0.001mol/l~0.5mol/l,凹凸棒的浓度范围为2~50g/l;再加入一定量的HMT,并搅拌均匀,HMT与铈盐的摩尔比为2∶1~20∶1之间;混合溶液在电动搅拌器搅拌下放入70~100℃的水浴中反应1~5h,取出冷却静置至室温,过滤、洗涤后,进行干燥,再在200~700℃煅烧1~5h,得到负载了纳米氧化铈的凹凸棒粉体。本发明制备的凹凸棒粉体负载均匀、分散性好,无需复杂的设备,所需化学原料种类少,价格便宜,实验可重复性好。
-
公开(公告)号:CN101239308A
公开(公告)日:2008-08-13
申请号:CN200810019827.1
申请日:2008-03-18
申请人: 江苏工业学院
摘要: 本发明涉及非金属矿产资源精加工和无机化工技术领域,其特征在于将天然凹凸棒石粘土用盐酸预处理后,制成固含量约为10%的浆料,再取一定量的凹凸棒浆料和铈盐混合溶于去离子水中,将溶液用电动搅拌器搅拌均匀,其中Ce3+相对于溶液的浓度范围为0.001mol/l~0.5mol/l,凹凸棒的浓度范围为2~50g/l;再加入一定量的HMT,并搅拌均匀,HMT与铈盐的摩尔比为2∶1~20∶1之间;混合溶液在电动搅拌器搅拌下放入70~100℃的水浴中反应1~5h,取出冷却静置至室温,过滤、洗涤后,进行干燥,再在200~700℃煅烧1~5h,得到负载了纳米氧化铈的凹凸棒粉体。本发明制备的凹凸棒粉体负载均匀、分散性好,无需复杂的设备,所需化学原料种类少,价格便宜,实验可重复性好。
-
公开(公告)号:CN100351179C
公开(公告)日:2007-11-28
申请号:CN200510040459.5
申请日:2005-06-09
申请人: 江苏工业学院
摘要: 本发明涉及超细粉体制备及其应用领域,其制备方法为称取一定量的铈盐和尿素分别溶于蒸馏水中,将两种溶液混合并用电动搅拌器搅拌均匀。其中Ce3+相对于总溶液的浓度范围为0.005~0.1mol/l,尿素与铈盐摩尔比在10∶1~100∶1之间,混合溶液密封好后在70℃~90℃的温度下加热1~3h,取出冷却静置,在室温下陈化0.5~12小时,过滤,沉淀物经洗涤后,进行干燥,再在200℃~800℃煅烧0.5~3h,得到CeO2粉体。取制得的粉体配制成抛光液,采用抛光机对硅晶片进行抛光。由于制得的颗粒形貌为球形,且粒度相当小(在亚微米级),对表面质量要求相当高的硅晶片抛光具有出较大的优越性,表现为有尽可能小的表层和亚表层损伤、表面残余应力极小,且晶体表面具有完整的晶体结构。
-
公开(公告)号:CN1760132A
公开(公告)日:2006-04-19
申请号:CN200510041507.2
申请日:2005-08-17
申请人: 江苏工业学院
摘要: 本发明涉及超细粉体制备及其应用领域,其制备方法为称取一定量的硝酸铈和六亚甲基四胺(HMT)分别溶于乙醇与蒸馏水中,将两种溶液混合并用电动搅拌器搅拌均匀。其中Ce3+相对于总溶液的浓度范围为0.01~0.05mol/l,HMT与硝酸铈摩尔比在10∶1~40∶1之间,醇水体积比在1∶1~6∶1之间,混合溶液密封好后在70℃~90℃的温度下加热1~2h,取出冷却静置,在室温下陈化1~2小时,过滤,沉淀物经洗涤后,于60~80℃干燥6~10h,即得到纳米CeO2粉体。取制得的粉体配制成抛光液,磨料质量浓度为1%~5wt%,加入氧化剂H2O2在10~20wt%之间,用KOH调节pH至9~11,采用抛光机对砷化镓晶片进行抛光,抛光后表面能达到亚纳米量级的表面粗糙度。
-
公开(公告)号:CN1699282A
公开(公告)日:2005-11-23
申请号:CN200510040459.5
申请日:2005-06-09
申请人: 江苏工业学院
IPC分类号: C04B35/50 , C04B35/622 , C09K3/14
摘要: 本发明涉及超细粉体制备及其应用领域,其制备方法为称取一定量的铈盐和尿素分别溶于蒸馏水中,将两种溶液混合并用电动搅拌器搅拌均匀。其中Ce3+相对于总溶液的浓度范围为0.005~0.1mol/l,尿素与铈盐摩尔比在10∶1~100∶1之间,混合溶液密封好后在70℃~90℃的温度下加热1~3h,取出冷却静置,在室温下陈化0.5~12小时,过滤,沉淀物经洗涤后,进行干燥,再在200℃~800℃煅烧0.5~3h,得到CeO2粉体。取制得的粉体配制成抛光液,采用抛光机对硅晶片进行抛光。由于制得的颗粒形貌为球形,且粒度相当小(在亚微米级),对表面质量要求相当高的硅晶片抛光具有出较大的优越性,表现为有尽可能小的表层和亚表层损伤、表面残余应力极小,且晶体表面具有完整的晶体结构。
-
-
-
-
-