基于探测器响应特性的成像系统校准方法及成像校正方法

    公开(公告)号:CN107607982B

    公开(公告)日:2020-01-03

    申请号:CN201711090136.6

    申请日:2017-11-08

    Inventor: 刘建强 王土生

    Abstract: 本发明公开了一种基于探测器响应特性的成像系统校准方法及成像校正方法,该方法通过提前对探测器的自身响应进行校准,使射线分布特性尽可能分离,并将探测器的自身响应的参数进行保存;当成像系统更换新的射线源或当前成像系统的几何布局发生较大改变时,平板探测器使用者只需针对成像系统的射线分布进行校准;最后在正常曝光时,根据探测器的自身响应参数和射线分布系数进行图像的校正。本发明考虑了探测器的自身响应和射线分布的影响,既简化了成像系统在实际使用时的校准过程,又能得到较好的校正图像的图像质量。

    成像设备的自动曝光控制方法及曝光系统

    公开(公告)号:CN106954329B

    公开(公告)日:2018-07-13

    申请号:CN201610327390.2

    申请日:2016-05-17

    Abstract: 本发明提供一种成像设备的自动曝光控制方法及曝光系统,所述方法包括:实时接收曝光光信号,并记录其持续接收的时间,若当前曝光光信号持续接收的时间等于曝光采样开始时间,则对曝光光信号在所述感兴趣区域形成的电荷信号进行采样,形成电荷信号阵列,并记录采样持续时间;根据采样获取的电荷信号阵列获取实际曝光指示系数,并记录曝光指示系数计算时间;根据所述期望曝光指示系数、实际曝光指示系数、曝光采样开始时间、采样持续时间、曝光指示系数计算时间确定剩余曝光时间;根据剩余曝光时间发送曝光终止信号。本发明只需一次曝光,在降低曝光剂量的同时保证图像质量,提高了成像设备的易用性。

    基于探测器响应特性的成像系统校准方法及成像校正方法

    公开(公告)号:CN107607982A

    公开(公告)日:2018-01-19

    申请号:CN201711090136.6

    申请日:2017-11-08

    Inventor: 刘建强 王土生

    Abstract: 本发明公开了一种基于探测器响应特性的成像系统校准方法及成像校正方法,该方法通过提前对探测器的自身响应进行校准,使射线分布特性尽可能分离,并将探测器的自身响应的参数进行保存;当成像系统更换新的射线源或当前成像系统的几何布局发生较大改变时,平板探测器使用者只需针对成像系统的射线分布进行校准;最后在正常曝光时,根据探测器的自身响应参数和射线分布系数进行图像的校正。本发明考虑了探测器的自身响应和射线分布的影响,既简化了成像系统在实际使用时的校准过程,又能得到较好的校正图像的图像质量。

    成像设备的自动曝光控制方法及曝光系统

    公开(公告)号:CN106954329A

    公开(公告)日:2017-07-14

    申请号:CN201610327390.2

    申请日:2016-05-17

    CPC classification number: H05G1/46

    Abstract: 本发明提供一种成像设备的自动曝光控制方法及曝光系统,所述方法包括:实时接收曝光光信号,并记录其持续接收的时间,若当前曝光光信号持续接收的时间等于曝光采样开始时间,则对曝光光信号在所述感兴趣区域形成的电荷信号进行采样,形成电荷信号阵列,并记录采样持续时间;根据采样获取的电荷信号阵列获取实际曝光指示系数,并记录曝光指示系数计算时间;根据所述期望曝光指示系数、实际曝光指示系数、曝光采样开始时间、采样持续时间、曝光指示系数计算时间确定剩余曝光时间;根据剩余曝光时间发送曝光终止信号。本发明只需一次曝光,在降低曝光剂量的同时保证图像质量,提高了成像设备的易用性。

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