一种基于激光重熔和微弧氧化的陶瓷膜层的制备方法

    公开(公告)号:CN106086994B

    公开(公告)日:2019-02-01

    申请号:CN201610592511.6

    申请日:2016-07-25

    Inventor: 杨武 张春燕

    Abstract: 本发明公开了一种基于激光重熔和微弧氧化的陶瓷膜层的制备方法,具体包括步骤一、镁合金材料的预处理;步骤二、激光重熔前处理;步骤三、配制电解液;步骤四、微弧氧化处理;最后得具有耐蚀性增强的陶瓷膜层的镁合金基材。本发明制备的膜层的截面孔洞和微裂纹较少,膜层表面的孔隙率降低到2%以下,镁合金表面的自腐蚀电流密度较母材降低了3个数量级,同时其容抗弧半径较大,其耐蚀性得到有效的提升。进一步改善了镁合金基材微弧氧化膜的微观形貌,提高了镁合金基材表面的耐蚀性能的问题。

    一种基于激光重熔和微弧氧化的陶瓷膜层的制备方法

    公开(公告)号:CN106086994A

    公开(公告)日:2016-11-09

    申请号:CN201610592511.6

    申请日:2016-07-25

    Inventor: 杨武 张春燕

    CPC classification number: C25D11/30

    Abstract: 本发明公开了一种基于激光重熔和微弧氧化的陶瓷膜层的制备方法,具体包括步骤一、镁合金材料的预处理;步骤二、激光重熔前处理;步骤三、配制电解液;步骤四、微弧氧化处理;最后得具有耐蚀性增强的陶瓷膜层的镁合金基材。本发明制备的膜层的截面孔洞和微裂纹较少,膜层表面的孔隙率降低到2%以下,镁合金表面的自腐蚀电流密度较母材降低了3个数量级,同时其容抗弧半径较大,其耐蚀性得到有效的提升。进一步改善了镁合金基材微弧氧化膜的微观形貌,提高了镁合金基材表面的耐蚀性能的问题。

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